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1. (WO2015134756) ÉLIMINATION DE PARTICULES DE FILMS ÉLECTROCHROMES À L'AIDE DE FLUIDES NON AQUEUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/134756    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/018980
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 05.03.2015
CIB :
G02F 1/15 (2006.01)
Déposants : SAGE ELECTROCHROMICS, INC. [US/US]; One Sage Way Faribault, Minnesota 55021 (US)
Inventeurs : KALWEIT, Harvey; (US).
AJJARAPU, Satya; (US).
GIRON, Jean-Christophe; (US)
Mandataire : ABEL LAW GROUP, LLP; (US)
Données relatives à la priorité :
14/198,824 06.03.2014 US
Titre (EN) PARTICLE REMOVAL FROM ELECTROCHROMIC FILMS USING NON-AQUEOUS FLUIDS
(FR) ÉLIMINATION DE PARTICULES DE FILMS ÉLECTROCHROMES À L'AIDE DE FLUIDES NON AQUEUX
Abrégé : front page image
(EN)Several of the films that comprise various energy producing or control devices, for example, electrochromic devices, lithium batteries, and photovoltaic cells, are sensitive to moisture in some way. They may be especially vulnerable to moisture at particular stages during their fabrication. It may also be highly desirable during fabrication to be able to wash particulates from the surface. The particulates may be generated some aspect of the fabrication process, or they may arise from the environment in which the fabrication takes place. This concepts described herein illustrate ways to remove the particles from the surface without incurring the damage associated with typical washing processes, resulting in higher manufacturing yields and better device performance.
(FR)Selon l'invention, plusieurs films qui comprennent divers dispositifs de commande ou de production d'énergie, par exemple, des dispositifs électrochromes, des batteries au lithium et des cellules photovoltaïques, sont dans une certaine manière sensibles à l'humidité. Ils peuvent être particulièrement vulnérables à l'humidité à des étapes particulières au cours de leur fabrication. Il peut également être hautement souhaitable, pendant la fabrication, que l'on puisse laver des particules présentes sur la surface. Les particules peuvent être générées à certains aspects du procédé de fabrication, ou elles peuvent provenir de l'environnement dans lequel la fabrication a lieu. Ces concepts décrits dans la présente invention concernent des manières d'éliminer les particules de la surface sans entraîner de dégâts associés à des procédés de lavage classiques, ce qui entraîne des rendements de fabrication plus élevés et une meilleure performance du dispositif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)