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1. (WO2015134135) AMÉLIORATION DE LA SURFACE D'UN COMPOSANT DE CHAMBRE CRITIQUE POUR RÉDUIRE LES PARTICULES DE LA CHAMBRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/134135    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/013917
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 30.01.2015
CIB :
C04B 35/64 (2006.01), C04B 35/10 (2006.01), C04B 35/581 (2006.01), C04B 35/584 (2006.01), C04B 35/48 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : DUAN, Ren-Guan; (US).
ROCHA-ALVAREZ, Juan Carlos; (US).
SANKARAKRISHNAN, Ramprakash; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; (US)
Données relatives à la priorité :
61/948,362 05.03.2014 US
Titre (EN) CRITICAL CHAMBER COMPONENT SURFACE IMPROVEMENT TO REDUCE CHAMBER PARTICLES
(FR) AMÉLIORATION DE LA SURFACE D'UN COMPOSANT DE CHAMBRE CRITIQUE POUR RÉDUIRE LES PARTICULES DE LA CHAMBRE
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments described herein generally relate to apparatus and methods for thermally treating chamber components for use in ultraviolet semiconductor processing chambers. Thermal treatment of chamber components comprising unitary ceramic or glass articles may reduce the probability of particle generation when the chamber components are exposed to corrosive environments, such as exposure to ultraviolet light and ozone/oxygen radicals. A method of thermally treating chamber components includes heating the unitary article at an acceptable ramp rate to a desired temperature for a desired time period and subsequently cooling the unitary article at the ramping rate.
(FR)Selon certains modes de réalisation, la présente invention concerne de manière générale un appareil et des procédés de traitement thermique de composants d'une chambre destinés à être utilisés dans des chambres de traitement de semi-conducteurs à ultraviolets. Le traitement thermique des composants de la chambre comprenant des articles unitaires en céramique ou en verre peut réduire la probabilité de production de particules lorsque les composants de la chambre sont exposés à des environnements corrosifs, tels que l'exposition à la lumière ultraviolette et à l'ozone/des radicaux d'oxygène. Un procédé de traitement thermique de composants de chambre consiste à chauffer l'article unitaire à une vitesse de montée en température acceptable jusqu'à une température souhaitée pendant une période de temps souhaitée puis à refroidir l'article unitaire à la vitesse de montée en température.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)