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1. (WO2015134084) COMPOSITIONS PHOTOPOLYMÉRISABLES POUR DES PROCÉDÉS DE DÉPÔT AUTOCATALYTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/134084    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/070551
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 16.12.2014
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Déposants : EASTMAN KODAK COMPANY [US/US]; 343 State Street Rochester, NY 14650-2201 (US)
Inventeurs : SHUKLA, Deepak; (US).
MIS, Mark; (US)
Données relatives à la priorité :
14/197,293 05.03.2014 US
Titre (EN) PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITIONS FOR ELECTROLESS PLATING METHODS
(FR) COMPOSITIONS PHOTOPOLYMÉRISABLES POUR DES PROCÉDÉS DE DÉPÔT AUTOCATALYTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A photopolymerizable composition has five essential components: (a) a photopolymerizable epoxy material, (b) a photoacid generator such as an onium salt, (c) electron donor photosensitizer having an oxidation potential of at least 0.4 V and up to and including 3 V vs. SCE, and (d) metal particles. This photopolymerizable composition can be applied or printed onto one or both sides of various substrates to form articles that can be used to form electrically conductive materials. Methods for using the photopolymerizable compositions include electroless plating methods that can be carried out in roll-to-roll printing systems once various photocured patterns are formed from the photopolymerizable compositions.
(FR)L'invention porte sur une composition photopolymérisable qui possède cinq constituants essentiels : (a) un matériau d'époxy photopolymérisable, (b) un générateur de photoacide tel qu'un sel d'onium, (c) un photosensibilisateur donneur d'électrons présentant un potentiel d'oxydation d'au moins 0,4 V et jusqu'à et comprenant 3 V vs. SCE, et (d) des particules métalliques. Cette composition photopolymérisable peut être appliquée ou imprimée sur un ou les deux côtés de divers substrats pour former des articles qui peuvent être utilisés pour former des matériaux électriquement conducteurs. Des procédés d'utilisation des compositions photopolymérisables comprennent des procédés de dépôt autocatalytique qui peuvent être mis en œuvre dans des systèmes d'impression de rouleau à rouleau une fois que divers motifs photopolymérisés sont formés à partir des compositions photopolymérisables.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)