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1. (WO2015133689) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE NETTOYER L'ARRIÈRE OU LE BORD D'UNE PLAQUETTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/133689    N° de la demande internationale :    PCT/KR2014/007859
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 25.08.2014
CIB :
H01L 21/302 (2006.01)
Déposants : IMT CO., LTD [KR/KR]; 15-23, Dongtansandan 6-gil, Dongtan-myeon Hwaseong-si Gyeonggi-do 445-811 (KR)
Inventeurs : LEE, Jong Myoung; (KR).
LEE, Kyu-pil; (KR).
CHOE, Han-seop; (KR)
Mandataire : CHANGYEOL, Ryu; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0026371 06.03.2014 KR
10-2014-0059644 19.05.2014 KR
Titre (EN) DEVICE AND METHOD FOR CLEANING BACKSIDE OR EDGE OF WAFER
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE NETTOYER L'ARRIÈRE OU LE BORD D'UNE PLAQUETTE
(KO) 웨이퍼의 배면 또는 에지 세정 장치 및 방법
Abrégé : front page image
(EN)A wafer backside cleaning device is disclosed. The wafer backside cleaning device is configured to remove alien substances on the backside of a wafer using a laser beam, and comprises: a rotation unit for rotating the wafer while the outer periphery of the backside of the wafer is exposed; and a laser beam emission unit for emitting a pulse-wave laser beam to the outer periphery of the backside of the wafer such that, as the rotation unit rotates, the position of emission of the pulse-wave laser beam is changed.
(FR)L'invention concerne un dispositif de nettoyage de l'arrière d'une plaquette. Le dispositif de nettoyage de l'arrière d'une plaquette sert à retirer les substances étrangères sur l'arrière d'une plaquette au moyen d'un faisceau laser, et comprend : une unité de rotation permettant de faire tourner la plaquette tandis que la périphérie extérieure de l'arrière de la plaquette est découverte ; et une unité d'émission de faisceau laser permettant d'émettre un faisceau laser à ondes pulsées vers la périphérie extérieure de l'arrière de la plaquette de sorte que, pendant la rotation de l'unité de rotation, la position d'émission du faisceau laser à ondes pulsées change.
(KO)웨이퍼 배면 세정 장치가 개시된다. 이 웨이퍼 배면 세정 장치는, 웨이퍼 배면의 이물을 레이저 빔으로 제거하는 것으로서, 상기 웨이퍼 배면의 외곽부가 노출된 상태로 상기 웨이퍼를 회전시키는 회전 유닛; 및 상기 웨이퍼 배면의 외곽부에 펄스파 레이저빔을 조사하며, 상기 회전 유닛의 회전에 따라 상기 펄스파 레이저빔의 조사 위치를 변경시키면서 조사하는 레이저빔 조사 유닛을 포함한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)