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1. (WO2015133558) SYSTEME OPTIQUE A PARTICULES CHARGEES DU TYPE A PROJECTION ET APPAREIL D'IMAGERIE PAR SPECTROMETRIE DE MASSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/133558    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/056445
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 26.02.2015
CIB :
H01J 49/40 (2006.01), G01N 27/62 (2006.01), H01J 37/252 (2006.01), H01J 49/06 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP)
Inventeurs : IWASAKI, Kota; (JP)
Mandataire : ABE, Takuma; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-040967 03.03.2014 JP
2015-033378 23.02.2015 JP
Titre (EN) PROJECTION-TYPE CHARGED PARTICLE OPTICAL SYSTEM AND IMAGING MASS SPECTROMETRY APPARATUS
(FR) SYSTEME OPTIQUE A PARTICULES CHARGEES DU TYPE A PROJECTION ET APPAREIL D'IMAGERIE PAR SPECTROMETRIE DE MASSE
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a projection-type charged particle optical system in which a projection magnification can be changed while a decrease in the accuracy in measuring a mass-to- charge ratio is being suppressed. A projection-type charged particle optical system (4) according to the present invention includes a first electrode (41) disposed so as to face a sample (2) and having an opening formed therein for allowing a charged particle to pass, a second electrode (42) disposed on a side of the first electrode opposite to where the sample is disposed and having an opening formed therein for allowing the charged particle to pass, and a flight-tube electrode (45) disposed such that the charged particle that has been emitted from the sample and has passed through the second electrode enters the flight-tube electrode and being configured to form a substantially equipotential space thereinside. A principal plain (PP) is formed at at least two positions in a travel path of the charged particle.
(FR)La présente invention concerne un système optique à particules chargées du type à projection, dans lequel le grossissement de projection peut être modifié et qui permet d'éviter une diminution de la précision dans la mesure d'un rapport masse/charge. Le système optique (4) à particules chargées du type à projection selon la présente invention comprend une première électrode (41), placée face à un échantillon (2) et qui comporte une ouverture formée à l'intérieur de celle-ci permettant le passage d'une particule chargée, une deuxième électrode (42) placée du côté de la première électrode qui est opposé à l'endroit où se situe l'échantillon, et qui comporte une ouverture formée à l'intérieur de celle-ci permettant le passage de la particule chargée, et une électrode (45) de tube de vol, placée de sorte que la particule chargée ayant été émise par l'échantillon et ayant traversé la deuxième électrode, pénètre dans l'électrode de tube de vol, ladite électrode étant conçue pour former un espace sensiblement équipotentiel à l'intérieur de celle-ci. Une surface principale (PP) est formée en au moins deux points d'un trajet de déplacement de la particule chargée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)