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1. (WO2015133532) MATÉRIAU POLYMÈRE DE BASE, UTILISATION ASSOCIÉE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/133532    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/056390
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 04.03.2015
CIB :
C08J 7/12 (2006.01), A61L 31/00 (2006.01), C08J 7/18 (2006.01)
Déposants : DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-Nishi 2-Chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308323 (JP)
Inventeurs : KOIZUMI, Yoshiko; .
KUBOTA, Kouji; .
MORITA, Masamichi;
Mandataire : SAEGUSA & PARTNERS; Kitahama TNK Building, 1-7-1, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-042190 04.03.2014 JP
Titre (EN) POLYMER BASE MATERIAL, USE THEREOF, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) MATÉRIAU POLYMÈRE DE BASE, UTILISATION ASSOCIÉE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 高分子基材、その用途及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing a polymer base material having a surface exhibiting excellent non-adherence properties and release properties with respect to proteins and/or cells. This polymer base material has, bonded via chemical bonds to at least a portion of the surface thereof, a polymer including: (A) at least one fluorine-containing compound; and/or (B) repeating units based on at least one fluorine-containing compound.
(FR)La présente invention aborde le problème de fournir un matériau polymère de base ayant une surface présentant d'excellentes propriétés antiadhésives et de non-adhérence par rapport à des protéines et/ou à des cellules. Ce matériau polymère de base possède, lié par des liaisons chimiques à au moins une partie de sa surface, un polymère comprenant : (A) au moins un composé contenant du fluor ; et/ou (B) des motifs répétitifs à base d'au moins un composé contenant du fluor.
(JA)タンパク質及び/又は細胞に対して優れた非粘着性並びに剥離性を示す表面を有する高分子基材を提供することを課題とする。 (A)少なくとも1種のフッ素含有化合物、及び/又は (B)少なくとも1種のフッ素含有化合物に基づく繰り返し単位を含有する重合体が、 少なくとも表面の一部に化学結合を介して結合している、高分子基材をその解決手段とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)