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1. (WO2015133441) STRATIFIÉ FAISANT BARRIÈRE CONTRE LES GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/133441    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/056105
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 02.03.2015
CIB :
B32B 9/00 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01)
Déposants : TOYO SEIKAN GROUP HOLDINGS, LTD. [JP/JP]; 18-1, Higashi-Gotanda 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1418627 (JP)
Inventeurs : NANGOU, Shunya; (JP).
OBU, Yusuke; (JP).
OKUYAMA, Shinpei; (JP).
KAWAHARA, Naru; (JP)
Mandataire : ONO, Hisazumi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-041676 04.03.2014 JP
2014-056600 19.03.2014 JP
Titre (EN) GAS BARRIER LAMINATE
(FR) STRATIFIÉ FAISANT BARRIÈRE CONTRE LES GAZ
(JA) ガスバリア性積層体
Abrégé : front page image
(EN)This gas barrier laminate (10) is characterized in that an ultrathin metal oxide film (ALD film) (5) is formed on an inorganic oxide layer (3) using atomic layer deposition, the inorganic oxide layer (3) is formed from a metal oxide including Si and/or Al, or a metal oxynitride, and the ratio (d1/d2) of the thickness d1 of the inorganic oxide layer (3) and the thickness d2 of the ALD film (5) is 3-50. This gas barrier laminate (10) not only has high gas-barrier properties, but also has excellent productivity.
(FR)L'invention concerne un stratifié faisant barrière contre les gaz (10) caractérisé en ce qu'un film d'oxyde de métal ultra-mince (film ALD) (5) est formé sur une couche d'oxyde inorganique (3) au moyen d'un dépôt de couche atomique, la couche d'oxyde inorganique (3) est formée à partir d'un oxyde de métal contenant du Si et/ou de l'Al ou d'un oxynitrure métallique, et le rapport (d1/d2) entre l'épaisseur d1 de la couche d'oxyde inorganique (3) et l'épaisseur d2 du film ALD (5) est de 3-50. Le stratifié faisant barrière contre les gaz selon l'invention (10) présente non seulement des propriétés de barrière contre les gaz élevées, mais présente également une excellente productivité.
(JA)本発明のガスバリア性積層体10は、無機酸化物層3上に原子層堆積法による極薄金属酸化物膜(ALD膜)5が形成されており、無機酸化物層3がSi及びAlの少なくとも一方を含む金属酸化物若しくは金属酸窒化物から形成されており、無機酸化物層3の厚みd1とALD膜5の厚みd2との比(d1/d2)が3~50であることを特徴とする。このガスバリア性積層体10は、高いガスバリア性を有しているばかりか、生産性にも優れている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)