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1. (WO2015133388) MEMBRANE ÉLECTROLYTIQUE SOLIDE À FILM ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/133388    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/055787
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 27.02.2015
CIB :
H01M 10/0565 (2010.01), H01B 1/06 (2006.01), H01B 1/08 (2006.01), H01B 1/10 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H01M 6/18 (2006.01), H01M 10/0562 (2010.01)
Déposants : LINTEC CORPORATION [JP/JP]; 23-23, Honcho, Itabashi-ku, Tokyo 1730001 (JP)
Inventeurs : MORIOKA Takashi; (JP).
MUTOU Tsuyoshi; (JP)
Mandataire : KINOSHITA & ASSOCIATES; 3rd floor, Ogikubo TM building, 26-13, Ogikubo 5-chome, Suginami-ku, Tokyo 1670051 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-044223 06.03.2014 JP
Titre (EN) SOLID ELECTROLYTE MEMBRANE WITH FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) MEMBRANE ÉLECTROLYTIQUE SOLIDE À FILM ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) フィルム付き固体電解質膜およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This solid electrolyte membrane (1) with a film is characterized by comprising: a film (11) that has a surface having a contact angle with acetonitrile of from 35 degrees to 75 degrees (inclusive) and a contact angle with chloroform of from 15 degrees to 40 degrees (inclusive); and a solid electrolyte membrane (12) that is in contact with the surface of the film (11). This method for producing a solid electrolyte membrane with a film is characterized by comprising: a step for applying a solid electrolyte membrane-forming composition to a film surface that has a contact angle with acetonitrile of from 35 degrees to 75 degrees (inclusive) and a contact angle with chloroform of from 15 degrees to 40 degrees (inclusive); and a step for forming a solid electrolyte membrane by curing the applied solid electrolyte membrane-forming composition.
(FR)La présente invention concerne une membrane électrolytique solide (1) comportant un film, qui est caractérisée en ce qu'elle comprend : un film (11) qui présente une surface ayant un angle de contact avec l'acétonitrile situé dans la plage allant de 35 degrés à 75 degrés (inclus) et un angle de contact avec le chloroforme situé dans la plage allant de 15 degrés à 40 degrés (inclus) ; et une membrane électrolytique solide (12) qui est en contact avec la surface du film (11). Ce procédé de production d'une membrane électrolytique solide comportant un film est caractérisé en ce qu'il comprend : une étape d'application d'une composition de formation de membrane électrolytique solide sur une surface de film qui a un angle de contact avec l'acétonitrile situé dans la plage allant de 35 degrés à 75 degrés (inclus) et un angle de contact avec le chloroforme situé dans la plage allant de 15 degrés à 40 degrés (inclus) ; et une étape de formation d'une membrane électrolytique solide par durcissement de la composition de formation de membrane électrolytique solide appliquée.
(JA)フィルム付き固体電解質膜(1)は、アセトニトリルに対する接触角が35度以上75度以下であり、かつクロロホルムに対する接触角が15度以上40度以下である面を有するフィルム(11)と、フィルム(11)の前記面に接する固体電解質膜(12)と、を備えることを特徴とする。フィルム付き固体電解質膜の製造方法は、アセトニトリルに対する接触角が35度以上75度以下であり、かつクロロホルムに対する接触角が15度以上40度以下であるフィルムの面に、固体電解質膜形成用組成物を塗布する工程と、塗布された前記固体電解質膜形成用組成物を硬化させて固体電解質膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)