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1. (WO2015133236) SYSTÈME DE RAYONNEMENT DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, SYNCHROTRON, ET PROCÉDÉ D'ÉJECTION DE FAISCEAU POUR LEDIT SYSTÈME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/133236    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/053721
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 12.02.2015
CIB :
H05H 13/04 (2006.01), A61N 5/10 (2006.01), G21K 5/04 (2006.01), H05H 7/10 (2006.01)
Déposants : HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventeurs : NISHIUCHI Hideaki; (JP).
EBINA Futaro; (JP).
TOTAKE Satoshi; (JP).
NOMURA Takuya; (JP).
MORIYAMA Kunio; (JP)
Mandataire : INOUE Manabu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-044524 07.03.2014 JP
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BEAM RADIAITON SYSTEM, SYNCHROTRON, AND BEAM EJECTION METHOD THEREFOR
(FR) SYSTÈME DE RAYONNEMENT DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, SYNCHROTRON, ET PROCÉDÉ D'ÉJECTION DE FAISCEAU POUR LEDIT SYSTÈME
(JA) 荷電粒子ビーム照射システム、シンクロトロンおよびそのビーム出射方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a charged particle beam radiation system capable of suppressing the occurrence of overshooting in an ejection beam current at beam ejection start time, while improving the beam shutdown speed. When controlling the ejection of a charged particle beam from a synchrotron, a radio-frequency voltage is applied, which serves as the radio-frequency voltage to be applied to an ejection radio-frequency electrode equipping the synchrotron, and which is constituted by a first radio-frequency voltage for increasing an oscillation amplitude in such a way as to exceed a stable limit in order to eject to the exterior of the synchrotron a beam that circles inside the synchrotron, and a second radio-frequency voltage for preferentially ejecting a charged particle beam that circles in the vicinity of the stable limit, with the amplitude value of the second radio-frequency voltage being controlled in such a way that the amplitude value is 0 prior to the beam ejection start, the amplitude value increases gradually from the beam ejection start, and, once a predetermined amplitude value has been reached, this value is maintained.
(FR)La présente invention se rapporte à un système de rayonnement de faisceau de particules chargées apte à supprimer l'apparition d'un dépassement dans un courant de faisceau d'éjection au démarrage de l'éjection du faisceau, tout en améliorant la vitesse de coupure de faisceau. Lors de la commande de l'éjection d'un faisceau de particules chargées à partir d'un synchrotron, une tension aux radiofréquences est appliquée, qui sert de tension aux radiofréquences destinée à être appliquée sur une électrode de radiofréquence d'éjection équipant le synchrotron, et qui est constituée par une première tension aux radiofréquences pour augmenter une amplitude d'oscillation de manière à dépasser une limite stable afin d'éjecter à l'extérieur du synchrotron un faisceau faisant des cercles à l'intérieur du synchrotron, et par une deuxième tension aux radiofréquences destinée, de préférence, à éjecter un faisceau de particules chargées faisant des cercles au voisinage de la limite stable, la valeur d'amplitude de la deuxième tension aux radiofréquences étant commandée de telle sorte que la valeur d'amplitude est égale à 0 avant le démarrage de l'éjection du faisceau, la valeur d'amplitude augmentant progressivement à partir du démarrage d'éjection du faisceau, et, une fois qu'une valeur d'amplitude prédéterminée a été atteinte, cette valeur étant maintenue.
(JA) ビーム停止速度を向上しつつ、ビーム出射開始時の出射ビーム電流にオーバーシュートが生じるのを抑制できる荷電粒子ビーム照射システムを提供する。 シンクロトロンから荷電粒子ビームの出射制御を実施する際、シンクロトロンに設けられた出射用高周波電極に印加する高周波電圧として、シンクロトロン内を周回するビームをシンクロトロン外に出射させるため、安定限界を超えるように振動振幅を増大させるための第一高周波電圧と、安定限界の近傍を周回する荷電粒子ビームを優先的に出射させるための第二高周波電圧とで構成される高周波電圧を印加し、第二高周波電圧の振幅値は、ビーム出射開始前には振幅値を0としておき、ビーム出射開始とともに漸増的に振幅値を増大し、所定の振幅値に到達したらその値を維持する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)