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1. (WO2015133235) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE GRAVURE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/133235    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/053643
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 10.02.2015
CIB :
G03F 7/40 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : UEBA Ryosuke; (JP).
IGUCHI Naoya; (JP).
YAMANAKA Tsukasa; (JP)
Mandataire : ODAHARA Shuichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-041981 04.03.2014 JP
Titre (EN) PATTERN FORMING METHOD, ETCHING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE GRAVURE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) パターン形成方法、エッチング方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
Abrégé : front page image
(EN)This pattern forming method is a method for forming a pattern wherein two or more different patterns are laid out in different regions. A first negative pattern is formed in a first region on a substrate, and a second negative pattern, which is different from the first negative pattern, is formed in a second region, which is different from the first region.
(FR)L'invention porte sur un procédé de formation de motif qui est un procédé de formation d'un motif dans lequel au moins deux motifs différents sont disposés dans différentes régions. Un premier motif négatif est formé dans une première région sur un substrat, et un second motif négatif, qui est différent du premier motif négatif, est formé dans une deuxième région, qui est différente de la première région.
(JA) パターン形成方法は、2つ以上の異なるパターンが異なる領域にレイアウトされたパターンを形成する、パターン形成方法であって、基板上の第1の領域に第1のネガ型パターンを形成し、第1の領域とは異なる第2の領域に第1のネガ型パターンとは異なる第2のネガ型パターンを形成する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)