WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015133225) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/133225    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/053449
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 09.02.2015
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), C08F 220/28 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : GOTO Akiyoshi; (JP).
KOJIMA Masafumi; (JP).
SHIRAKAWA Michihiro; (JP).
KATO Keita; (JP)
Mandataire : ODAHARA Shuichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-045602 07.03.2014 JP
Titre (EN) ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having a large focus latitude and exceptional developability, and a pattern formation method, an electronic device manufacturing method, and an electronic device using the composition. This actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (P) including recurring units (i) having a radical represented by general formula (1), and a compound generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, the compound being represented by a specific formula.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement présentant une grande latitude de mise au point et une caractéristique de développement exceptionnelle, et un procédé de formation de motif, un procédé de fabrication de dispositif électronique et un dispositif électronique utilisant la composition. Cette composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement contient une résine (P) incluant des unités récurrentes (i) comportant un radical représenté par la formule générale (1) et un composé générant un acide lors de son exposition aux rayons actiniques ou au rayonnement, le composé étant représenté par une formule spécifique.
(JA)本発明は、フォーカス許容度が大きく、かつ、現像性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記組成物を用いたパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式(1)で表される基を有する繰り返し単位(i)を含む樹脂(P)、及び、特定の式で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)