WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015133113) CAPTEUR TACTILE ET MÉTHODE D'ÉVALUATION DU SENS DU TOUCHER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/133113    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/001073
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 02.03.2015
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.08.2015    
CIB :
G01L 5/16 (2006.01), G01B 5/00 (2006.01), G01L 5/00 (2006.01), G01N 3/40 (2006.01), G01N 19/02 (2006.01)
Déposants : NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION KAGAWA UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Saiwai-cho, Takamatsu-shi, Kagawa 7608521 (JP)
Inventeurs : TAKAO, Hidekuni; (JP)
Mandataire : YAMAUCHI PATENT ATTORNEYS; Nihon Seimei-Takamatsu-Ekimae Bldg. 3F, 1-1-8, Kotobuki-cho, Takamatsu-shi, Kagawa 7600023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-040189 03.03.2014 JP
Titre (EN) TACTILE SENSOR AND METHOD FOR EVALUATING SENSE OF TOUCH
(FR) CAPTEUR TACTILE ET MÉTHODE D'ÉVALUATION DU SENS DU TOUCHER
(JA) 触覚センサおよび手触り感の評価方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a tactile sensor which is capable of allowing a large displacement of a contact element and detecting microscopic asperities or flexibility and the like of a surface of an object to be measured. A sensor unit (S) includes: a frame (10) including a side of a substrate (B); a contact element (20) which is disposed in parallel to the substrate (B) and arranged so that the tip is protruded from a side face of the substrate (B); a suspension (30) for supporting the contact element (20) to the frame (10); and a displacement detector (41, 42) for detecting the displacement of the contact element (20). The side face of the substrate (B) serves as a sensing surface, and the contact element (20) in contact with the object to be measured (O) is displaced within a plane parallel to the substrate (B). This allows the sensor unit (S) to be extended two-dimensionally along the substrate (B), thus providing a high degree of flexibility in structure design. As a result, it is possible to permit a large displacement of the contact element (20) and sense microscopic asperities or flexibility of a surface of the object to be measured (O).
(FR)La présente invention concerne un capteur tactile qui est capable de permettre un grand déplacement d'un élément de contact et de détecter des aspérités ou une flexibilité microscopiques et des caractéristiques similaires d'une surface d'un objet à mesurer. Une unité capteur (S) comprend : un châssis (10) comprenant un côté d'un substrat (B) ; un élément de contact (20) qui est situé en parallèle avec le substrat (B) et agencé de façon que le bout dépasse d'une face latérale du substrat (B) ; une suspension (30) permettant de supporter l'élément de contact (20) par rapport au châssis (10) ; et un détecteur de déplacement (41, 42) permettant de détecter le déplacement de l'élément de contact (20). La face latérale du substrat (B) sert de surface de détection, et l'élément de contact (20) en contact avec l'objet à mesurer (O) est déplacé dans un plan parallèle au substrat (B). Cela permet à l'unité capteur (S) de s'étendre dans deux dimensions le long du substrat (B), ce qui offre un haut niveau de flexibilité de la conception de structure. Par conséquent, il est possible de permettre un grand déplacement de l'élément de contact (20) et de détecter des aspérités ou une flexibilité microscopiques d'une surface de l'objet à mesurer (O).
(JA) 接触子の大きな変位を許容でき、測定対象物表面の微細な凹凸や柔軟性等を検知できる触覚センサを提供する。 センサ部Sは、基板Bの側部を含むフレーム10と、基板Bに対して平行、かつ、先端が基板Bの側面から突出するように配置された接触子20と、接触子20をフレーム10に対して支持するサスペンション30と、接触子20の変位を検出する変位検出器41、42とを備える。基板Bの側面がセンシング面となり、測定対象物Oに接触した接触子20は基板Bに対して平行な面内で変位する。そのため、センサ部Sを基板Bに沿って平面状に広がりを有する構造にできるので、構造設計の自由度が高い。その結果、接触子20の大きな変位を許容でき、測定対象物O表面の微細な凹凸や柔軟性等を検知できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)