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1. (WO2015132290) SYSTÈME DE MISE EN FORME DE FAISCEAU ET SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE L'UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/132290    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/054478
Date de publication : 11.09.2015 Date de dépôt international : 04.03.2015
CIB :
G02B 19/00 (2006.01), F21V 5/04 (2006.01), G02B 3/00 (2006.01), G02B 3/08 (2006.01), F21Y 105/00 (2006.01)
Déposants : PHILIPS LIGHTING HOLDING B.V. [NL/NL]; High Tech Campus 45 5656 AE Eindhoven (NL)
Inventeurs : KRIJN, Marcellinus, Petrus, Carolus, Michael; (NL).
SEPKHANOV, Ruslan, Akhmedovich; (NL)
Mandataire : VERWEIJ, P., D.; (NL)
Données relatives à la priorité :
14157679.3 04.03.2014 EP
Titre (EN) BEAM SHAPING SYSTEM AND AN ILLUMINATION SYSTEM USING THE SAME
(FR) SYSTÈME DE MISE EN FORME DE FAISCEAU ET SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE L'UTILISANT
Abrégé : front page image
(EN)A beam shaping system is for example for use over an array of light sources. An array of beam shaping units is arranged in a general plane, each beam shaping unit comprising a central refracting area, an intermediate total internal reflection area for processing of light from a light source beneath the central area, and an outer total internal reflection area for processing light from the nearest light source and an adjacent light source. This outer area essentially extends the useful size of the adjacent beam shaping unit to improve the beam shaping performance and/or the optical efficiency.
(FR)La présente invention concerne un système de mise en forme de faisceau destiné à être utilisé, par exemple, sur un réseau de sources lumineuses. Un réseau d'unités de mise en forme de faisceau est agencé dans un plan général, chaque unité de mise en forme de faisceau comprenant une zone de réfraction centrale; une zone de réflexion interne totale intermédiaire destinée au traitement d'une lumière en provenance d'une source lumineuse sous la zone centrale; et une zone de réflexion interne totale externe destinée au traitement d'une lumière en provenance de la source lumineuse la plus proche et d'une source lumineuse adjacente. Cette zone externe étend essentiellement la taille utile de l'unité de mise en forme de faisceau adjacente afin d'améliorer la performance de mise en forme de faisceau et/ou l'efficacité optique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)