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1. (WO2015131188) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR COMPENSER DES PARASITES DE DÉVIATION DANS UN MICROSCOPE À FORCES ATOMIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/131188    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/018311
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 02.03.2015
CIB :
G01Q 70/04 (2010.01), G01Q 30/06 (2010.01)
Déposants : BRUKER NANO, INC. [US/US]; 112 Robin Hill Road Santa Barbara, CA 93117 (US)
Inventeurs : SU, Chanmin; (US).
HU, Shuiqing; (US)
Mandataire : DURST, Jay G.; (US)
Données relatives à la priorité :
14/193,138 28.02.2014 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS TO COMPENSATE FOR DEFLECTION ARTIFACTS IN AN ATOMIC FORCE MICROSCOPE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR COMPENSER DES PARASITES DE DÉVIATION DANS UN MICROSCOPE À FORCES ATOMIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A method of compensating for an artifact in data collected using a standard atomic force microscope (AFM) operating in an oscillating mode. The artifact is caused by deflection of the probe not related to actual probe- sample interaction and the method includes compensating for thermal induced bending of the probe of the AFM by measuring a DC component of the measured deflection. The DC component of deflection is identified by calibrating the optical deflection detection apparatus and monitoring movement of the mean deflection, thereby allowing the preferred embodiments to minimize the adverse effect due to the artifact. Notably, plotting the DC deflection profile yields a corresponding temperature profile of the sample.
(FR)L'invention porte sur un procédé de compensation d'un parasite dans des données rassemblées à l'aide d'un microscope à forces atomiques (AFM) standard fonctionnant dans un mode oscillant. Le parasite est provoqué par une déviation de la sonde qui n'est pas associée à une interaction sonde-échantillon effective, et le procédé comprend la compensation d'une courbure induite thermiquement de la sonde du microscope à forces atomiques par la mesure d'une composante en courant continu de la déviation mesurée. La composante de déviation en courant continu est identifiée par étalonnage de l'appareil de détection de déviation et surveillance du mouvement de la déviation moyenne, permettant ainsi aux modes de réalisation préférés de réduire à un minimum l'effet défavorable dû au parasite. De façon notable, le tracé du profil de déviation en courant continu produit un profil de température correspondant de l'échantillon.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)