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1. (WO2015130607) FORMULATIONS À BASE HUMIDE POUR L'ÉLIMINATION SÉLECTIVE DE MÉTAUX NOBLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/130607    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/017088
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 23.02.2015
CIB :
C22B 3/04 (2006.01), C22B 3/06 (2006.01)
Déposants : ENTEGRIS, INC. [US/US]; 129 Concord Road Billerica, Massachusetts 01821 (US)
Inventeurs : CHEN, Tianniu; (US).
JIANG, Ping; (US).
KORZENSKI, Michael B.; (US)
Mandataire : FUIERER, Tristan; (US)
Données relatives à la priorité :
61/944,366 25.02.2014 US
Titre (EN) WET BASED FORMULATIONS FOR THE SELECTIVE REMOVAL OF NOBLE METALS
(FR) FORMULATIONS À BASE HUMIDE POUR L'ÉLIMINATION SÉLECTIVE DE MÉTAUX NOBLES
Abrégé : front page image
(EN)Compositions and processes for leaching noble metals from materials comprising said noble metals. Advantageously, the halide-based composition is environmentally friendly and effectively removes noble metals at room temperature without the need for high pressures and electrodes.
(FR)L'invention concerne des compositions et des procédés de lixiviation de métaux nobles à partir de matériaux contenant lesdits métaux nobles. De manière avantageuse, la composition à base d'halogénure est sans danger pour l'environnement et élimine efficacement les métaux nobles à température ambiante sans avoir à utiliser des pressions élevées et des électrodes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)