WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015130532) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE PULVÉRISATION CATHODIQUE UTILISANT UNE VITESSE OU PUISSANCE DE BALAYAGE DÉPENDANT DE LA DIRECTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/130532    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/016448
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 18.02.2015
CIB :
C23C 14/35 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Déposants : INTEVAC, INC. [US/US]; 3560 Bassett Street Santa Clara, CA 95054 (US).
SHAH, Vinay [US/US]; (US).
RIPOSAN, Alexandru [RO/US]; (US).
BLUCK, Terry [US/US]; (US).
KUDRIAVTSEV, Vladimir [RU/US]; (US)
Inventeurs : SHAH, Vinay; (US).
RIPOSAN, Alexandru; (US).
BLUCK, Terry; (US).
KUDRIAVTSEV, Vladimir; (US)
Mandataire : BACH, Joseph; (US)
Données relatives à la priorité :
14/185,859 20.02.2014 US
Titre (EN) SPUTTERING SYSTEM AND METHOD USING DIRECTION-DEPENDENT SCAN SPEED OR POWER
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE PULVÉRISATION CATHODIQUE UTILISANT UNE VITESSE OU PUISSANCE DE BALAYAGE DÉPENDANT DE LA DIRECTION
Abrégé : front page image
(EN)A sputtering system having a processing chamber with an inlet port and an outlet port, and a sputtering target positioned on a wall of the processing chamber. A movable magnet arrangement is positioned behind the sputtering target and reciprocally slides behind the target. A conveyor continuously transports substrates at a constant speed past the sputtering target, such that at any given time, several substrates face the target between the leading edge and the trailing edge. The movable magnet arrangement slides at a speed that is at least several times faster than the constant speed of the conveyor. A rotating zone is defined behind the leading edge and trailing edge of the target, wherein the magnet arrangement decelerates when it enters the rotating zone and accelerates as it reverses direction of sliding within the rotating zone. Magnet power and/or speed varies as function of direction of magnet travel.
(FR)L'invention porte sur un système de pulvérisation cathodique qui possède une chambre de traitement avec un orifice d'entrée et un orifice de sortie, et une cible de pulvérisation cathodique positionnée sur une paroi de la chambre de traitement. Un agencement d'aimants mobiles est positionné derrière la cible de pulvérisation cathodique et coulisse en va-et-vient derrière la cible. Un transporteur transporte de façon continue des substrats à une vitesse constante devant la cible de pulvérisation cathodique, de telle sorte qu'à tout moment donné, plusieurs substrats font face à la cible entre le bord avant et le bord arrière. L'agencement à aimants mobiles coulisse à une vitesse qui est au moins plusieurs fois supérieure à la vitesse constante du transporteur. Une zone de rotation est définie derrière le bord avant et le bord arrière de la cible, l'agencement à aimants décélérant lorsqu'il entre dans la zone de rotation et accélérant lorsqu'il change de direction de coulissement à l'intérieur de la zone de rotation. La puissance et/ou la vitesse des aimants varie en fonction de la direction de déplacement des aimants.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)