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1. (WO2015129781) COMPOSITION DE FORMATION DE NANOFILS MÉTALLIQUES, NANOFIL MÉTALLIQUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/129781    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/055514
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 26.02.2015
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    16.11.2015    
CIB :
B22F 9/24 (2006.01), B22F 1/00 (2006.01), C22C 9/06 (2006.01), H01B 5/00 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H01L 21/288 (2006.01)
Déposants : NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 14-1, Soto Kanda 4-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010021 (JP)
Inventeurs : INOUE Shuji; (JP).
YAMAMOTO Yoshinari; (JP)
Mandataire : WATANABE Kazuhiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-036819 27.02.2014 JP
Titre (EN) METAL NANOWIRE-FORMING COMPOSITION, METAL NANOWIRE, AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE NANOFILS MÉTALLIQUES, NANOFIL MÉTALLIQUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
(JA) 金属ナノワイヤー形成用組成物、金属ナノワイヤー及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)In the present invention, a method for producing a metal nanowire is provided with I) a step of obtaining a mixed metal precursor liquid by dissolving, in a primary amine, a carboxylic acid salt that contains a first metal having a standard electrode potential of -0.5 V to +0.4 V and a metal halide that contains a second metal, which has a higher standard electrode potential than the first metal and has a standard electrode potential of +0.3 V to +1.0 V and, following step I), II) a step of growing a metal nanowire by heating the mixed metal precursor liquid so as to reduce ions of the first metal and precipitate the first metal, and subjecting the precipitated first metal and ions of the second metal to a metal substitution reaction so as to reduce ions of the second metal and precipitate the second metal.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'un nanofil métallique, le procédé comprenant : I) une étape consistant à obtenir un liquide de précurseur métallique mixte par dissolution, dans une amine primaire, d'un sel d'acide carboxylique qui contient un premier métal ayant un potentiel d'électrode standard compris entre -0,5 V et +0,4 V et d'un halogénure - métallique qui contient un second métal, qui présente un potentiel d'électrode standard supérieur à celui du premier métal et présente un potentiel d'électrode standard compris entre +0,3 V et +1,0 V et, après l'étape I), II) une étape consistant à faire croître un nanofil métallique en chauffant le liquide de précurseur de métal mixte de sorte à réduire les ions du premier métal et de précipiter le premier métal, et en soumettant le premier métal précipité et des ions du second métal à une réaction de substitution métallique de sorte à réduire les ions du second métal et de précipiter le second métal.
(JA) 金属ナノワイヤーの製造方法は、I)標準電極電位が-0.5Vから+0.4Vの範囲内である第1金属を含むカルボン酸塩と、第1金属の標準電極電位よりも高く、且つ標準電極電位が+0.3Vから+1.0Vの範囲内である第2金属を含む金属ハロゲン化物とを1級アミンに溶解して、金属前駆体の混合液を得る工程、及び、II)工程Iの後に、該金属前駆体の混合液を加熱して、第1金属のイオンを還元し、第1金属を析出させるとともに、析出した第1金属と第2金属のイオンとの金属置換反応によって、第2金属のイオンを還元して、第2金属を析出させて金属ナノワイヤーに成長させる工程、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)