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1. (WO2015129780) COMPOSITION DE RÉSINE POUR SUBSTRAT D'AFFICHAGE, COUCHE MINCE DE RÉSINE POUR SUBSTRAT D'AFFICHAGE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COUCHE MINCE DE RÉSINE POUR UN SUBSTRAT D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/129780    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/055513
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 26.02.2015
CIB :
C08G 73/10 (2006.01), C08L 79/08 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : EBARA, Kazuya; (JP)
Mandataire : YOSHIZAWA, Takao; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-038167 28.02.2014 JP
Titre (EN) RESIN COMPOSITION FOR DISPLAY SUBSTRATE, RESIN THIN FILM FOR DISPLAY SUBSTRATE, AND METHOD FOR PRODUCING RESIN THIN FILM FOR DISPLAY SUBSTRATE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE POUR SUBSTRAT D'AFFICHAGE, COUCHE MINCE DE RÉSINE POUR SUBSTRAT D'AFFICHAGE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COUCHE MINCE DE RÉSINE POUR UN SUBSTRAT D'AFFICHAGE
(JA) ディスプレイ基板用樹脂組成物、ディスプレイ基板用樹脂薄膜及びディスプレイ基板用樹脂薄膜の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a resin composition for a display substrate, with which it is possible to form a resin thin film for a display substrate that has a high heat resistance, an appropriate coefficient of linear expansion, and a high tensile strength. The resin composition for a display substrate contains a polyamic acid comprising structural units represented by formula (I) and having a weight-average molecular weight of 10,000 or more, and an organic solvent. In formula (1), X1 represents a tetravalent aromatic group of formula (3), Y1 represents a group represented by formula (P), and n represents a number of repeating units.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine pour un substrat d'affichage, à l'aide de laquelle il est possible de former une couche mince de résine pour un substrat d'affichage qui a une grande résistance à la chaleur, un coefficient de dilatation linéaire approprié et une grande résistance à la traction. La composition de résine pour un substrat d'affichage contient un poly(acide amique) comprenant des motifs structuraux représentés par la formule (I) et ayant une masse moléculaire moyenne en masse de 10 000 ou plus, et un solvant organique. Dans la formule (1), X1 représente un groupe aromatique tétravalent de formule (3), Y1 représente un groupe représenté par la formule (P), et n représente un nombre de motifs répétitifs.
(JA) 本発明によれば、高い耐熱性と、適度な線膨張係数および高い引っ張り強度を有するディスプレイ機基板用樹脂薄膜を形成することができるディスプレイ基板用樹脂組成物が提供される。本発明は、式(1)で表される構造単位を含み、重量平均分子量が10,000以上であるポリアミック酸と、有機溶媒とを含む、ディスプレイ基板用樹脂組成物により、上記課題を解決する。ここで式(1)において、Xは、式(3)の4価の芳香族基を表し、Yは、式(P)で表される基を表し、かつ、nは、繰り返し単位の数を表す。 
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)