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1. (WO2015129505) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, AGENT DE TRAITEMENT, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DUDIT DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/129505    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/054161
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 16.02.2015
CIB :
G03F 7/38 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : FURUTANI Hajime; (JP).
SHIRAKAWA Michihiro; (JP).
GOTO Akiyoshi; (JP).
KOJIMA Masafumi; (JP)
Mandataire : ODAHARA Shuichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-038764 28.02.2014 JP
2015-023657 09.02.2015 JP
Titre (EN) PATTERN FORMING METHOD, PROCESSING AGENT, ELECTRONIC DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAID DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, AGENT DE TRAITEMENT, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DUDIT DISPOSITIF
(JA) パターン形成方法、処理剤、電子デバイス及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN) A pattern forming method has, in the stated order: a step (1) for forming a film on a substrate using an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing at least a resin having a group that is decomposed by the action of an acid so as to generate a polar group; a step (2) for exposing the film; a step (3) for bringing about contact between the exposed film and components having any of an ion-bond interaction, hydrogen-bond interaction, chemical-bond interaction, or dipolar interaction with the polar group generated within the exposed film; and a step (4) for developing the exposed film using a developing fluid containing an organic solvent, removing low-exposure regions in the film, and forming a pattern.
(FR) L'invention porte sur un procédé de formation de motif qui comprend, dans l'ordre mentionné : une étape (1) pour former un film sur un substrat à l'aide d'une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement contenant au moins une résine ayant un groupe qui est décomposé par l'action d'un acide de manière à générer un groupe polaire ; une étape (2) pour exposer le film ; une étape (3) pour provoquer un contact entre le film exposé et des composants ayant l'une quelconque d'une interaction par liaison d'ions, d'une interaction par liaison hydrogènes, d'une interaction par liaison chimique ou d'une interaction dipolaire avec le groupe polaire généré à l'intérieur du film exposé ; et une étape (4) pour développer le film exposé à l'aide d'un fluide de développement contenant un solvant organique, éliminer des régions à faible exposition dans le film, et former un motif.
(JA) パターン形成方法は、酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する樹脂を少なくとも含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を形成する工程(1)と、膜を露光する工程(2)と、露光された膜を実質的に溶解させずに、露光された膜中に生じる極性基とイオン結合、水素結合、化学結合および双極子相互作用のうちのいずれかの相互作用をする成分と、露光された膜とを接触させる工程(3)と、露光された膜を有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、膜中の露光量の少ない領域を除去して、パターンを形成する工程(4)と、をこの順で有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)