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1. (WO2015129495) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE VERRE DE SILICATE, VERRE DE SILICATE, ET MATIÈRE PREMIÈRE DE SILICE POUR VERRE DE SILICE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/129495    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/054079
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 16.02.2015
CIB :
C03B 3/02 (2006.01), C03B 17/06 (2006.01), C03C 1/02 (2006.01), C03C 3/087 (2006.01), C03C 3/091 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01)
Déposants : NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639 (JP)
Inventeurs : NARITA Toshiharu; (JP).
KOMORI Hiroshi; (JP).
TAKAYA Tatsuya; (JP)
Mandataire : SHIROMURA Kunihiko; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-037837 28.02.2014 JP
2014-209671 14.10.2014 JP
Titre (EN) SILICATE GLASS PRODUCTION METHOD, SILICATE GLASS, AND SILICA RAW MATERIAL FOR SILICA GLASS
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE VERRE DE SILICATE, VERRE DE SILICATE, ET MATIÈRE PREMIÈRE DE SILICE POUR VERRE DE SILICE
(JA) 珪酸塩ガラスの製造方法、珪酸塩ガラス及び珪酸塩ガラス用シリカ原料
Abrégé : front page image
(EN)A silicate glass production method wherein glass batch is melted and molded and a silicate glass is obtained, and wherein a silica raw material that includes 0.01-2 mass% of an alkali earth metal component in terms of oxide content is introduced into the glass batch.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de verre de silicate dans lequel une composition pour verre est fondue et moulée et un verre de silicate est obtenu, et dans lequel un matériau de départ à base de silice qui comprend de 0,01 à 2 % en masse d'un composant de métal alcalino-terreux en termes de teneur en oxyde est introduit dans la composition pour verre.
(JA) ガラスバッチを溶融、成形し、珪酸塩ガラスを得る珪酸塩ガラスの製造方法であって、ガラスバッチ中に、アルカリ土類金属成分を酸化物換算で0.01~2質量%含むシリカ原料を導入する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)