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1. (WO2015129307) COMPOSITION DE RÉSINE, FILM DE RÉSERVE UTILISANT CETTE DERNIÈRE, ÉBAUCHES DE MASQUE POUR APPLICATION DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE MODÉLISATION DE RÉSERVE ET PHOTOMASQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/129307    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/050633
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 13.01.2015
CIB :
G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : TSUCHIMURA Tomotaka; (JP).
YAMAGUCHI Shuhei; (JP).
YOKOKAWA Natsumi; (JP)
Mandataire : ODAHARA Shuichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-034038 25.02.2014 JP
Titre (EN) RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING SAME, RESIST-APPLICATION MASK BLANKS, RESIST-PATTERNING METHOD, AND PHOTOMASK
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE, FILM DE RÉSERVE UTILISANT CETTE DERNIÈRE, ÉBAUCHES DE MASQUE POUR APPLICATION DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE MODÉLISATION DE RÉSERVE ET PHOTOMASQUE
(JA) 樹脂組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク
Abrégé : front page image
(EN)This active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains the following: a macromolecular compound (A) that contains a phenolic hydroxyl group and has (a) a weight-average molecular weight between 3,000 and 6,500, inclusive, and (b) a glass transition temperature (Tg) of at least 140°C; a compound (B) that generates an acid upon exposure to active light or radiation; and (C) a cross-linker that cross-links the macromolecular compound (A) via the action of the aforementioned acid and has a glass transition temperature (Tg) of at least 200°C.
(FR)Cette composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement contient les éléments suivants : un composé macromoléculaire (A) qui contient un groupe hydroxyle phénolique et possède (a) un poids moléculaire moyen en poids compris entre 3000 et 6 500, inclus, et (b) une température de transition vitreuse (Tg) d'au moins 140 °C; un composé (B) qui génère un acide lors de son exposition à une lumière active ou un rayonnement; et (C) un agent de réticulation qui réticule le composé macromoléculaire (A) par l'action de l'acide susmentionné et possède une température de transition vitreuse (Tg) d'au moins 200° C.
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フェノール性水酸基を有し、かつ、下記(a)及び(b)を満たす高分子化合物(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び、酸の作用により高分子化合物(A)を架橋する、ガラス転移温度(Tg)が200℃以上の架橋剤(C)を含有する。 (a)重量平均分子量が3000以上6500以下 (b)ガラス転移温度(Tg)が140℃以上
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)