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1. (WO2015129059) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/129059    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/065661
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 06.06.2014
CIB :
G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP)
Inventeurs : KAWANISHI, Yutaka; (JP).
INOUE, Hiroyasu; (JP).
YAMASHITA, Kazuki; (JP)
Mandataire : NAKAYAMA, Tohru; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-038517 28.02.2014 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive resin composition containing (A), (B), (C), and (D), the amount of (A) being 45-80% by mass in relation to the total amount of (A) and (C): (A) a polymer that contains a structural unit derived from an aromatic carboxylic acid having an ethylenically unsaturated bond and a structural unit derived from an unsaturated compound having a C2-4 cyclic ether structure, said polymer having no structural units that have a C4-6 perfluoroalkyl group; (B) a polymer containing structural unit that has a C4-6 perfluoroalkyl group; (C) a polymeric compound; and (D) a polymerization initiator.
(FR)L'invention porte sur une composition de résine photosensible contenant (A), (B), (C) et (D), la quantité de (A) étant 45 à 80 % en masse par rapport à la quantité totale de (A) et (C) : (A) un polymère qui contient une unité structurelle dérivée d'un acide carboxylique aromatique ayant une liaison éthyléniquement insaturée et une unité structurelle dérivée d'un composé insaturé ayant une structure d'éther cyclique C2-4, ledit polymère n'ayant pas d'unités structurelles qui ont un groupe perfluoroalkyle C4-6 ; (B) un polymère contenant une unité structurelle qui comporte un groupe perfluoroalkyle C4-6 ; (C) un composé polymérique ; et (D) un initiateur de polymérisation.
(JA)(A)、(B)、(C)及び(D)を含み、 (A)の含有量が、(A)と(C)との合計含有量に対して、45質量%以上80質量%以下である感光性樹脂組成物。 (A)エチレン性不飽和結合を有する芳香族カルボン酸に由来する構造単位と、炭素数2~4の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位とを含み、炭素数4~6のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を有しない重合体 (B)炭素数4~6のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を含む重合体 (C)重合性化合物 (D)重合開始剤
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)