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1. (WO2015129058) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/129058    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/065660
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 06.06.2014
CIB :
G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP)
Inventeurs : KAWANISHI, Yutaka; (JP).
INOUE, Hiroyasu; (JP).
YAMASHITA, Kazuki; (JP)
Mandataire : NAKAYAMA, Tohru; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-038516 28.02.2014 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive resin composition containing (A), (B), (C), and (D). (A) A polymer that has a structural unit having a phenolic hydroxy group but no structural units having a C4-6 perfluoroalkyl group, (B) a polymer containing a structural unit having a C4-6 perfluoroalkyl group, (C) a polymerizable compound, and (D) a polymerization initiator.
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible contenant (A), (B), (C), et (D). (A) représente un polymère qui a une unité structurale ayant un groupe hydroxy phénolique, mais pas d'unités structurales ayant un groupe perfluoroalkyle en C4-6, (B) représente un polymère contenant une unité structurale ayant un groupe perfluoroalkyle en C4-6, (C) représente un composé polymérisable, et (D) représente un initiateur de polymérisation.
(JA)(A)、(B)、(C)及び(D)を含む感光性樹脂組成物。 (A)フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位を有し、炭素数4~6のペルフルオロアルキル基を 有する構造単位を有しない重合体 (B)炭素数4~6のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を含む重合体 (C)重合性化合物 (D)重合開始剤
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)