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1. (WO2015128979) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FORMER ET DE SÉCHER UN FILM DE REVÊTEMENT, ET DISPOSITIF DE FORMATION ET DE SÉCHAGE DE FILM DE REVÊTEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/128979    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/054816
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 27.02.2014
CIB :
B05D 1/26 (2006.01), B05C 5/00 (2006.01), B05C 9/12 (2006.01), B05D 3/12 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : KABUSHIKI KAISHA ISHII HYOKI [JP/JP]; 5, Asahioka, Kannabe-cho, Fukuyama-shi, Hiroshima 7202113 (JP)
Inventeurs : KOZAWA Yasuhiro; (JP)
Mandataire : SHIROMURA Kunihiko; Ehara Patent Office, 15-26, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500002 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR FORMING AND DRYING COATING FILM, AND DEVICE FOR FORMING AND DRYING COATING FILM
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FORMER ET DE SÉCHER UN FILM DE REVÊTEMENT, ET DISPOSITIF DE FORMATION ET DE SÉCHAGE DE FILM DE REVÊTEMENT
(JA) 塗布膜形成乾燥方法および塗布膜形成乾燥装置
Abrégé : front page image
(EN) A method for forming and drying a coating film, comprising a film liquid discharge step for discharging a film liquid (6) onto a substrate (2) using a coating device, and a coating film drying step for concluding the film liquid discharge step and drying a coating film (7) having fluid properties formed on the substrate (2), wherein an inkjet coating device (1) is used as the coating device in the film liquid discharge step, and the coating film (7) having fluid properties formed on the substrate (2) as a result of discharge of the film liquid (6) by the inkjet coating device (1) is vacuum dried in an atmosphere having a temperature of 10°C to 40°C in the coating film drying step.
(FR) La présente invention concerne un procédé de formation et de séchage d'un film de revêtement, comprenant une étape de déversement de liquide de film pour déverser un liquide (6) de film sur un substrat (2) à l'aide d'un dispositif de revêtement, et une étape de séchage de film de revêtement pour conclure l'étape de déversement de liquide de film et le séchage d'un film de revêtement (7) ayant des propriétés de fluide mis en forme sur le substrat (2), un dispositif de revêtement par jet d'encre (1) étant utilisé comme dispositif de revêtement à l'étape de déversement de liquide de film, et le film de revêtement (7) ayant des propriétés de fluide mis en forme sur le substrat (2) résultant du déversement du film liquide (6) par le dispositif de revêtement par jet d'encre (1) est séché sous vide dans une atmosphère ayant une température de 10 °C à 40 °C lors de l'étape de séchage de film de revêtement.
(JA) 塗布装置を用いて基板2上に膜液6を吐出する膜液吐出工程と、膜液吐出工程を終えて基板2上に形成された流動性を有する塗布膜7を乾燥する塗布膜乾燥工程とを備えた塗布膜形成乾燥方法において、前記膜液吐出工程で、塗布装置としてインクジェット塗布装置1を用いると共に、前記塗布膜乾燥工程で、インクジェット塗布装置1による膜液6の吐出を終えて基板2上に形成された流動性を有する塗布膜7を10℃~40℃の温度雰囲気中で減圧乾燥する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)