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1. (WO2015128501) ÉLECTRODES PERMETTANT DE RÉALISER DES MICRO- ET/OU NANOSTRUCTURES SUR DES MATÉRIAUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/128501    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/054221
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 27.02.2015
CIB :
C25F 3/14 (2006.01), C25F 7/00 (2006.01), B23H 3/04 (2006.01), B23H 9/06 (2006.01)
Déposants : WINKELMANN, Cord [DE/DE]; (DE)
Inventeurs : WINKELMANN, Cord; (DE)
Mandataire : BOLSINGER, Jens; (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2014 102 550.4 27.02.2014 DE
Titre (DE) ELEKTRODEN GEEIGNET FÜR DIE HERSTELLUNG VON MIKRO- UND/ODER NANOSTRUKTUREN AUF WERKSTOFFEN
(EN) ELECTRODES SUITABLE FOR PRODUCING MICRO- AND/OR NANOSTRUCTURES ON MATERIALS
(FR) ÉLECTRODES PERMETTANT DE RÉALISER DES MICRO- ET/OU NANOSTRUCTURES SUR DES MATÉRIAUX
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Elektrode, geeignet für die Herstellung von Mikro- und/oder Nanostrukturen auf Werkstoffen, aufweisend ein Substrat (3), welches wenigstens eine erste Leitungsschicht (1) auf der Oberfläche des Substrates aufweist, oder ein Substrat, welches eine leitfähige Substratschicht ausbildet, wobei wenigstens eine erste Isolierungsschicht (2) auf der wenigstens einen ersten Leitungsschicht oder der leitfähigen Substratschicht ausgebildet ist, wobei die erste Isolierungsschicht die wenigstens eine erste Leitungsschicht oder die leitfähige Substratschicht nur abschnittsweise abdeckt und wenigstens ein Strukturierungselement (6) ausgebildet ist. Dabei weist das Substrat eine im Wesentlichen gekrümmte Form auf oder ist plastisch oder elastisch verformbar. Ein weiterer Aspekt betrifft eine mehrlagige Elektrode sowie eine Elektrode, die einen fluidischen Kanal (9) aufweist, dessen Durchflussfläche sich in Längserstreckungsrichtung vergrößert oder verkleinert.
(EN)The invention relates to an electrode suitable for producing micro- and/or nanostructures on materials, comprising a substrate (3) that has at least one first conducting layer (1) on the surface of the substrate or a substrate that forms a conductive substrate layer, wherein at least one first insulating layer (2) is formed on the at least one first conducting layer or the conductive substrate layer, wherein the first insulating layer covers the at least one first conducting layer or the conductive substrate layer only in some sections and at least one structuring element (6) is formed. The substrate has a substantially curved shape or can be plastically or elastically deformed. A further aspect relates to a multi-layer electrode and an electrode that has a fluidic channel (9), the flow area of which increases or decreases in a direction of longitudinal extent.
(FR)L'invention concerne une électrode, permettant de réaliser des micro- et/ou nanostructures sur des matériaux, qui comprend un substrat possédant au moins une première couche de conduction sur la surface du substrat ou un substrat qui constitue une couche de substrat conductrice. Au moins une première couche isolante est formée sur la ou les premières couches de conduction ou sur la couche de substrat conducteur. Cette première couche isolante recouvre par endroits seulement la ou les premières couches de conduction ou la couche de substrat conducteur et au moins un élément de structuration est formé. Le substrat a une forme sensiblement incurvée ou il est déformable plastiquement ou élastiquement. Un autre aspect concerne une électrode multicouche ainsi qu'une électrode qui comporte un conduit fluidique sont la section de passage augmente ou diminue dans le sens de son extension longitudinale.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)