WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015127908) SYSTÈME DE SUPPORT DE SUBSTRATS PENDANT LE DÉPÔT D'UNE COUCHE MINCE SUR LA SURFACE DES SUBSTRATS ET TABLE ROTATIVE POUR SUPPORTER LES SUBSTRATS SELON LE PROCÉDÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/127908    N° de la demande internationale :    PCT/CZ2015/000014
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 23.02.2015
CIB :
C23C 14/35 (2006.01), C23C 14/50 (2006.01), C23C 14/54 (2006.01), C23C 14/08 (2006.01), C23C 14/22 (2006.01)
Déposants : HVM PLASMA, SPOL.S R.O. [CZ/CZ]; Na Hutmance 347/2 158 00 Praha 5 (CZ)
Inventeurs : KADLEC, Stanislav; (CZ).
PLĺHAL, Petr; (CZ).
VYSKOČIL, Jiří; (CZ)
Mandataire : PATENTCENTRUM SEDLÁK & PARTNERS S.R.O.; Husova 5 P.O.Box 1 CZ-370 01 České Budějovice (CZ)
Données relatives à la priorité :
PV 2014-115 26.02.2014 CZ
Titre (EN) METHOD OF CARRYING SUBSTRATES DURING THE DEPOSITION OF A THIN FILM ON THE SURFACE OF SUBSTRATES AND A ROTARY TABLE FOR CARRYING THE SUBSTRATES ACCORDING TO THE METHOD
(FR) SYSTÈME DE SUPPORT DE SUBSTRATS PENDANT LE DÉPÔT D'UNE COUCHE MINCE SUR LA SURFACE DES SUBSTRATS ET TABLE ROTATIVE POUR SUPPORTER LES SUBSTRATS SELON LE PROCÉDÉ
Abrégé : front page image
(EN)During the deposition of thin surface layers on substrates (2), it is desirable that as many substrates (2) as possible are processed in a single batch in the sputtering device, while ensuring the quality of processing the surface layers on all stored substrates (2), in particular the homogeneity of the thickness of the layer (t) on each substrate (2). Currently there are tables (1) known for a sputtering device that ensure the quality of the surface layers, but their capacity is low due to the design of the sputtering device. Other tables (1), on the contrary, do not guarantee the optimum homogeneity of the layers. The invention presents a method and a rotary table (1) for execution of this method, which includes at least one rotary plate (3) on which there are arranged planetary carriers (5) for the substrates (2). The axes (6) of rotation of the planetary carriers (5) form, with the axis (4) of rotation of the rotary plate (1), an angle (a) ranging from 15° to 75°. The number of rotary plates (3) on the cage of the rotary table (1) can be easily changed so that the rotary table (1) accommodates the highest possible number of substrates (2) while maintaining the quality of the deposited surface layers. The high storage capacity of the rotary table (1) is ensured by the spatial arrangement of the substrates (2).
(FR)Pendant le dépôt de couches de surface minces sur des substrats (2), il est souhaitable que le plus grand nombre possible de substrats (2) soit traité en un seul lot dans le dispositif de pulvérisation, tout en garantissant la qualité du traitement des couches de surface sur tous les substrats stockés (2), en particulier l'homogénéité de l'épaisseur de la couche (t) sur chaque substrat (2). Il existe actuellement des tables (1) pour un dispositif de pulvérisation qui garantissent la qualité des couches de surface, mais leur capacité est faible en raison de la conception du dispositif de pulvérisation. D'autres tables (1), au contraire, ne garantissent pas l'homogénéité optimale des couches. L'invention concerne un procédé et une table rotative (1) pour l'exécution de ce procédé, qui comprennent au moins une plaque rotative (3) sur laquelle sont disposés des supports planétaires (5) pour les substrats (2). Les axes (6) de rotation des supports planétaires (5) forment, avec l'axe (4) de rotation de la plaque rotative (1), un angle (a) allant de 15° à 75°. Le nombre de plaques rotatives (3) sur la cage de la table rotative (1) peut être facilement changé de telle sorte que la table rotative (1) reçoive le nombre le plus élevé possible de substrats (2) tout en maintenant la qualité des couches déposées sur la surface. La capacité de stockage élevée de la table rotative (1) est assurée par l'agencement spatial des substrats (2).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)