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1. (WO2015127819) MANDRIN MÉCANIQUE ET DISPOSITIF D'USINAGE PAR PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/127819    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/095759
Date de publication : 03.09.2015 Date de dépôt international : 31.12.2014
CIB :
C23C 14/50 (2006.01)
Déposants : BEIJING NMC CO., LTD. [CN/CN]; No.8 Wenchang Avenue Beijing Economic-Technological Development Area, Beijing 100176 (CN)
Inventeurs : HOU, Jue; (CN)
Mandataire : TEE&HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; Tianshu ZHANG 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005 (CN)
Données relatives à la priorité :
201410072321.2 28.02.2014 CN
Titre (EN) MECHANICAL CHUCK AND PLASMA MACHINING DEVICE
(FR) MANDRIN MÉCANIQUE ET DISPOSITIF D'USINAGE PAR PLASMA
(ZH) 机械卡盘及等离子体加工设备
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a mechanical chuck and a plasma machining device, the mechanical chuck comprising a base and a fixed assembly; the fixed assembly comprises a snap ring, an insulating ring and an isolating ring; the snap ring is used to press against the edge of a machined workpiece to secure the workpiece to the base; an orthographic projection of the isolating ring on the upper surface of the snap ring coincides with the upper surface of the snap ring; the insulating ring electrically insulates the snap ring from the isolating ring, and the inner peripheral wall of the insulating ring encloses a first recess with the portion inside the inner peripheral wall of the upper surface of the snap ring and the portion inside the inner peripheral wall of the lower surface of the isolating ring; and the outer peripheral wall of the insulating ring encloses a second recess together with the portion outside the outer peripheral wall of the upper surface of the snap ring and the portion outside the outer peripheral wall of the lower surface of the isolating ring. The mechanical chuck and plasma machining device of the present invention improve negative bias voltage produced on the upper surface of the machined workpiece without increasing radio-frequency power, thus increasing radio-frequency efficiency.
(FR)La présente invention concerne un mandrin mécanique et un dispositif d'usinage par plasma, le mandrin mécanique comprenant une base et un ensemble fixe ; l'ensemble fixe comprend une bague d'encliquetage, une bague isolante et une bague d'isolement ; la bague d'encliquetage sert à appuyer contre le bord d'une pièce usinée pour fixer la pièce à la base ; une projection orthographique de la bague d'isolement sur la surface supérieure de la bague d’encliquetage coïncide avec la surface supérieure de la bague d’encliquetage ; la bague isolante isole électriquement la bague d’encliquetage de la bague d'isolement, et la paroi périphérique intérieure de la bague isolante entoure un premier renfoncement avec la partie à l'intérieur de la paroi périphérique intérieure de la surface supérieure de la bague d’encliquetage et la partie à l'intérieur de la paroi périphérique intérieure de la surface inférieure de la bague d'isolement ; et la paroi périphérique extérieure de la bague isolante entoure un deuxième renfoncement conjointement avec la partie à l'extérieur de la paroi périphérique extérieure de la surface supérieure de la bague d’encliquetage et la partie à l'extérieur de la paroi périphérique extérieure de la surface inférieure de la bague d'isolement. Le mandrin mécanique et le dispositif d'usinage par plasma selon la présente invention améliorent la tension de polarisation négative produite sur la surface supérieure de la pièce usinée sans augmentation de puissance des radiofréquences, ce qui permet d'augmenter l'efficacité des radiofréquences.
(ZH)本发明提供一种机械卡盘及等离子体加工设备。该机械卡盘包括基座和固定组件,固定组件包括卡环、绝缘环和隔离环,其中,卡环用于压住被加工工件的边缘区域,以将其固定在基座上;隔离环在卡环的上表面上的正投影与卡环的上表面重合;绝缘环使卡环与隔离环电绝缘,且绝缘环的内周壁与卡环的上表面的位于该内周壁内侧的部分和隔离环的下表面的位于该内周壁内侧的部分共同围成第一凹槽,绝缘环的外周壁与卡环的上表面的位于该外周壁外侧的部分和隔离环的下表面的位于该外周壁外侧的部分共同围成第二凹槽。本发明提供的机械卡盘及等离子体加工设备,可以在不提高射频功率的前提下,提高在被加工工件上表面上形成的负偏压,从而可以提高射频效率。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)