WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Options
Langue d'interrogation
Stemming/Racinisation
Trier par:
Nombre de réponses par page
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2015127353) PROCÉDÉ MÉTROLOGIQUE POUR LA MESURE D'UNE CONCENTRATION DE PHOTOSENSIBILISANT DANS UNE COUCHE DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE AMPLIFIÉE CHIMIQUEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2015/127353 N° de la demande internationale : PCT/US2015/017071
Date de publication : 27.08.2015 Date de dépôt international : 23.02.2015
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED[JP/JP]; Akasaka Biz Tower 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-6325, JP
TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC.[US/US]; 2400 Grove Boulevard Austin, Texas 78741, US (JP)
Inventeurs : CARCASI, Michael A.; US
SOMERVELL, Mark H.; US
HOOGE, Joshua S.; US
RATHSACK, Benjamen M.; US
NAGAHARA, Seiji; JP
Mandataire : MITROVIC, Andrej; US
Données relatives à la priorité :
61/944,05024.02.2014US
Titre (EN) METROLOGY FOR MEASUREMENT OF PHOTOSENSITIZER CONCENTRATION WITHIN PHOTO-SENSITIZED CHEMICALLY-AMPLIFIED RESIST
(FR) PROCÉDÉ MÉTROLOGIQUE POUR LA MESURE D'UNE CONCENTRATION DE PHOTOSENSIBILISANT DANS UNE COUCHE DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE AMPLIFIÉE CHIMIQUEMENT
Abrégé :
(EN) Methods for measuring photosensitizer concentrations in a photo-sensitized chemically-amplified resist (PS-CAR) patterning process are described. Measured photosensitizer concentrations can be used in feedback and feedforward control of the patterning process and subsequent processing steps. Also described is a metrology target formed using PS-CAR resist, and a substrate including a plurality of such metrology targets to facilitate patterning process control.
(FR) Cette invention concerne des procédés de mesure de concentrations de photosensibilisant dans un procédé de formation de motifs sur une couche de résine photosensible amplifiée chimiquement (PS-CAR). Les concentrations mesurées de photosensibilisant peuvent être utilisées pour la commande à rétroaction et par action direct du procédé de formation de motifs et des étapes de traitement subséquentes. L'invention concerne en outre une cible de procédé métrologique formée à l'aide d'une couche PS-CAR, et un substrat comprenant une pluralité de telles cibles de procédé métrologique pour faciliter la commande du procédé de formation de motifs.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)