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1. (WO2015125968) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE GEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/125968    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/055221
Date de publication : 27.08.2015 Date de dépôt international : 24.02.2015
CIB :
B01J 13/00 (2006.01), C01B 33/40 (2006.01), C08J 3/075 (2006.01), A61K 8/04 (2006.01), A61K 8/25 (2006.01), A61K 8/81 (2006.01), A61K 47/04 (2006.01), A61K 47/32 (2006.01), A61L 15/00 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : KUDO, Yoshihiro; (JP)
Mandataire : HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-033098 24.02.2014 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING GEL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE GEL
(JA) ゲルの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a production method with which a gel having a desired strength can be obtained by performing a step in which a solvent is partially or totally removed. [Solution] A method for producing a gel including a water-soluble organic polymer (A), a silicate (B), and a silicate dispersion agent (C) includes a solvent-removal step in which: either at least one solvent in the gel is partially or totally removed, said solvent being selected from the group consisting of water and water-soluble organic solvents; or a gel-forming composition including the water-soluble organic polymer (A), the silicate (B), the silicate dispersion agent (C), and the at least one solvent selected from the group consisting of water and water-soluble organic solvents is made into a gel, and the solvent in the gel is partially or totally removed.
(FR)L'invention fournit un procédé de fabrication selon lequel un gel possédant la résistance souhaitée, est obtenu par exécution d'une étape au cours de laquelle une partie ou l'ensemble d'un solvant est soumis à une désolvantation. Plus précisément, l'invention concerne un procédé de fabrication de gel qui contient un polymère organique hydrosoluble (A), un silicate (B) et un agent de dispersion (C) pour silicate. Ainsi, le procédé de fabrication de gel inclut une étape de désolvantation au cours de laquelle soit une partie ou l'ensemble d'une ou plusieurs sortes de solvants choisies dans un groupe constitué d'une eau et d'un solvant organique hydrosoluble contenus dans un gel, est soumis à une désolvantation, soit une composition de formation de gel contenant une ou plusieurs sortes de solvants choisis dans un groupe constitué d'un polymère organique hydrosoluble (A), d'un silicate (B), d'un agent de dispersion (C) pour silicate, et d'une eau ainsi que d'un solvant organique hydrosoluble, est gélifiée, et une partie ou l'ensemble du solvant contenu dans cette composition de formation de gel, est soumis à une désolvantation.
(JA)【課題】 溶媒の一部又は全量を脱溶媒する工程を実施することにより、所望の強度を有するゲルを得る製造方法を提供すること。 【解決手段】 水溶性有機高分子(A)、ケイ酸塩(B)及びケイ酸塩の分散剤(C)を含んでなるゲルの製造方法であって、 該ゲル中の水および水溶性有機溶媒からなる群から選ばれる1種又は2種以上の溶媒の一部又は全量を脱溶媒するか、又は 水溶性有機高分子(A)、ケイ酸塩(B)、ケイ酸塩の分散剤(C)並びに水および水溶性有機溶媒からなる群から選ばれる1種又は2種以上の溶媒を含むゲル形成性組成物をゲル化するとともに、その中の溶媒の一部又は全量を脱溶媒する、 脱溶媒工程、 を含むゲルの製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)