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1. (WO2015125782) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ SACCHARIDIQUE DE TYPE À SQUELETTE DE THIOLANE AINSI QUE COMPOSÉ SACCHARIDIQUE DE TYPE À SQUELETTE DE THIOLANE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/125782    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/054306
Date de publication : 27.08.2015 Date de dépôt international : 17.02.2015
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.07.2015    
CIB :
C07H 1/00 (2006.01), C07H 5/10 (2006.01), C07H 13/08 (2006.01), C07B 53/00 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : ITO, Takayuki; (JP).
WATANABE, Toru; (JP).
TAKEDA, Akira; (JP).
OKADA, Hideki; (JP)
Mandataire : IIDA, Toshizo; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-029021 18.02.2014 JP
2014-220369 29.10.2014 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING THIOLANE-SKELETON GLYCOCONJUGATE, AND THIOLANE-SKELETON GLYCOCONJUGATE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ SACCHARIDIQUE DE TYPE À SQUELETTE DE THIOLANE AINSI QUE COMPOSÉ SACCHARIDIQUE DE TYPE À SQUELETTE DE THIOLANE
(JA) チオラン骨格型糖化合物の製造方法およびチオラン骨格型糖化合物
Abrégé : front page image
(EN) A method for producing a compound represented by general formula (II) via a step for reacting a compound represented by general formula (I) with a sulfur compound, and a compound. In general formulas (I) and (II), R1 represents a hydrogen atom, alkyl group, or acyl group, R2 represents -O-R2a or a fluorine atom, and R2' represents -O-R2a, a fluorine atom, or =O. Herein, R2a represents a hydrogen atom, -CH2-R2b, or an acyl group. R2b, R3, and R5 represent a hydrogen atom, alkyl group, vinyl group, or aryl group, and X represents a leaving group. Herein, the bond from R2' to the thiolane ring represents a single bond or double bond.
(FR) L'invention concerne un composé et un procédé de fabrication d'un composé représenté par la formule générale (II), et obtenu par une étape de mise en réaction d'un composé représenté par la formule générale (I) avec un composé sulfuré. Dans les formules générales (I) et (II): R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe acyle; R2 représente -O-R2a ou un atome de fluor; R2' représente -O-R2a, un atome de fluor ou =O. Ici, R2a représente un atome d'hydrogène, - CH2R2b ou un groupe acyle. R2b, R3 et R5 représentent un atome d'hydrogène, un groupe alkyle, un groupe vinyle ou un groupe aryle, et X représente un groupe partant. Ici, la liaison atomique à partir de R2' vers le cycle thiolane représente une liaison unique ou une liaison double.
(JA) 下記一般式(I)で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程を経由する下記一般式(II)で表される化合物の製造方法及び化合物。 一般式(I)及び(II)中、Rは水素原子、アルキル基又はアシル基を表し、Rは、-O-R2a又はフッ素原子を表し、R'は-O-R2a、フッ素原子又は=Oを表す。ここで、R2aは、水素原子、-CH-R2b又はアシル基を表す。R2b、R及びRは水素原子、アルキル基、ビニル基又はアリール基を表し、Xは離脱基を表す。ここで、R2'からチオラン環への結合手は、単結合または二重結合を表す。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)