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1. (WO2015125558) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CORPS ÉLECTROCONDUCTEUR TRANSPARENT ET CORPS ÉLECTROCONDUCTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/125558    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/051985
Date de publication : 27.08.2015 Date de dépôt international : 26.01.2015
CIB :
H01B 13/00 (2006.01), B32B 15/08 (2006.01), C01G 9/08 (2006.01), H01B 1/02 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventeurs : TAGUCHI, Tomokazu; (JP).
TADA, Kazunari; (JP).
KASUYA, Jinichi; (JP)
Mandataire : KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-030754 20.02.2014 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE BODY AND ELECTROCONDUCTIVE BODY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CORPS ÉLECTROCONDUCTEUR TRANSPARENT ET CORPS ÉLECTROCONDUCTEUR
(JA) 透明導電体の製造方法及び透明導電体
Abrégé : front page image
(EN) The purpose of the present invention is to provide a method for manufacturing a transparent electroconductive body, and an electroconductive body in which light absorption is reduced, reflection of light in the visible light region is prevented, and resistivity is low. A method for manufacturing a transparent electroconductive body (10) having at least, in this order, a transparent substrate (1), a first high-refractive-index layer (2), a transparent metal layer (3), and a second high-refractive-index layer (4) by the roll-to-roll method, the method for manufacturing a transparent electroconductive body being characterized in having a step for forming the transparent metal layer (3) while the temperature of the transparent substrate (1) is kept at 65°C or less.
(FR) La présente invention vise à fournir un procédé de fabrication d'un corps électroconducteur transparent, et un corps électroconducteur dans lequel l'absorption de lumière est réduite, la réflexion de la lumière dans la région de la lumière visible est empêchée, et la résistivité est faible. L'invention concerne un procédé de fabrication d'un corps électroconducteur transparent (10) ayant au moins, dans cet ordre, un substrat transparent (1), une première couche à indice de réfraction élevé (2), une couche métallique transparente (3), et une seconde couche à indice de réfraction élevé (4) au moyen du procédé rouleau à rouleau. Le procédé de fabrication d'un corps électroconducteur transparent est caractérisé en ce qu'il comporte une étape consistant à former la couche métallique transparente (3) tandis que la température du substrat transparent (1) est maintenue à 65 °C ou moins.
(JA) 本発明の課題は、光の吸収が低減し、可視光領域の光の反射が防止され、低抵抗な透明導電体を製造する方法及び透明導電体を提供することである。本発明の透明導電体の製造方法は、少なくとも、透明基板1、第1高屈折率層2、透明金属層3及び第2高屈折率層4とをこの順に有する透明導電体10をロールtoロール法により製造する透明導電体の製造方法であって、前記透明基板1の温度を65℃以下に保ちながら、前記透明金属層3を形成する工程を有することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)