Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2015125530) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT ACTIF, FILM DE RÉSERVE, ÉBAUCHE DE MASQUE REVÊTU DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE ET PHOTOMASQUE

Pub. No.:    WO/2015/125530    International Application No.:    PCT/JP2015/051293
Publication Date: Fri Aug 28 01:59:59 CEST 2015 International Filing Date: Wed Jan 21 00:59:59 CET 2015
IPC: G03F 7/039
C08F 212/14
C08F 220/30
C08L 101/06
H01L 21/027
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: TSUCHIMURA Tomotaka
土村 智孝
Title: COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT ACTIF, FILM DE RÉSERVE, ÉBAUCHE DE MASQUE REVÊTU DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE ET PHOTOMASQUE
Abstract:
La présente invention concerne une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement actif et contient (A) un composé polymère qui présente une structure dans laquelle un atome d'hydrogène d'un groupe hydroxyle phénolique est substitué par un groupe représenté par la formule générale spécifique (I), et (B) un composé qui génère un acide lorsqu'il est irradié avec une lumière active ou un rayonnement actif.