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1. (WO2015125513) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU À UN RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU À UN RAYONNEMENT, ÉBAUCHE DE MASQUE COMPRENANT UN FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU OU À UN RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET COMPOSÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/125513    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/050631
Date de publication : 27.08.2015 Date de dépôt international : 13.01.2015
CIB :
G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : YAMAGUCHI Shuhei; (JP).
TAKAHASHI Koutarou; (JP).
TSUCHIMURA Tomotaka; (JP).
YOKOKAWA Natsumi; (JP).
MOCHIZUKI Hidehiro; (JP)
Mandataire : ODAHARA Shuichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-028890 18.02.2014 JP
Titre (EN) ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM, MASK BLANK PROVIDED WITH ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU À UN RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU À UN RAYONNEMENT, ÉBAUCHE DE MASQUE COMPRENANT UN FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU OU À UN RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET COMPOSÉ
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス及び化合物
Abrégé : front page image
(EN)An active light sensitive or radiation sensitive resin composition which contains an alkali-soluble resin and a crosslinking agent having a polarity converting group, and wherein the polarity converting group is a group that is decomposed by the action of an alkaline aqueous solution and generates a carboxylic acid or a sulfonic acid on the side of a crosslinking group.
(FR)L'invention concerne une composition de résine sensible à la lumière active ou à un rayonnement qui contient une résine soluble dans les alcalis et un agent de réticulation présentant un groupe de conversion de polarité, et dans lequel le groupe de conversion de polarité est un groupe qui est décomposé par l'action d'une solution aqueuse alcaline et génère un acide carboxylique ou un acide sulfonique sur le côté d'un groupe de réticulation.
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、極性変換基を有する架橋剤、及び、アルカリ可溶性樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記極性変換基が、アルカリ性水溶液の作用により分解し、架橋基を有する側にカルボン酸またはスルホン酸を生じる基である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)