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1. (WO2015125493) SOURCE DE RADICAUX ET DISPOSITIF D'ÉPITAXIE PAR JETS MOLÉCULAIRES

Pub. No.:    WO/2015/125493    International Application No.:    PCT/JP2015/000864
Publication Date: Fri Aug 28 01:59:59 CEST 2015 International Filing Date: Tue Feb 24 00:59:59 CET 2015
IPC: H05H 1/46
C23C 14/24
H01L 21/203
H01L 21/304
Applicants: NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION NAGOYA UNIVERSITY
国立大学法人名古屋大学
NU SYSTEM CORPORATION
NUシステム株式会社
Inventors: HORI, Masaru
堀 勝
ODA, Osamu
小田 修
KANO, Hiroyuki
加納 浩之
Title: SOURCE DE RADICAUX ET DISPOSITIF D'ÉPITAXIE PAR JETS MOLÉCULAIRES
Abstract:
Le problème posé est de produire une source de radicaux pouvant générer des radicaux de haute densité. La solution selon l'invention concerne une source de radicaux pourvue d'un tube d'alimentation (10) qui comprend SUS et d'un tube cylindrique de génération de plasma (11) qui se raccorde au tube d'alimentation (10) et comprend du nitrure de bore pyrolytique (PBN). Une première électrode CCP cylindrique (13) et une seconde électrode CCP cylindrique (30) sont agencées sur l'extérieur du tube de génération de plasma (11). Une bobine (12) est enroulée le long de la périphérie extérieure du tube de génération de plasma (11) vers le côté aval de la première électrode CCP (13). Un tube de raccordement étroit (23) s'étend depuis la base du tube de génération de plasma (11). Le tube de raccordement (23) est inséré dans le tube d'alimentation (10).