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1. (WO2015125193) APPAREIL DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2015/125193 N° de la demande internationale : PCT/JP2014/005814
Date de publication : 27.08.2015 Date de dépôt international : 19.11.2014
CIB :
C23C 14/34 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
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REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
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Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
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caractérisé par le procédé de revêtement
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Pulvérisation cathodique
Déposants :
キヤノンアネルバ株式会社 CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 神奈川県川崎市麻生区栗木2-5-1 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550, JP
Inventeurs :
楢舘 英知 NARADATE, Hidetomo; JP
芝本 雅弘 SHIBAMOTO, Masahiro; JP
Mandataire :
大塚 康徳 OHTSUKA, Yasunori; JP
Données relatives à la priorité :
2014-03210421.02.2014JP
Titre (EN) PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT
(JA) 処理装置
Abrégé :
(EN) Provided is a processing apparatus characterized in comprising: a vacuum chamber; multiple electrodes disposed inside the vacuum chamber; multiple electric power sources for applying electric potentials to the respective multiple electrodes; a detection unit for detecting the potentials in the processing space between a substrate that has been conveyed into the vacuum chamber and each of the multiple electrodes; and a control unit for controlling the phases of the electric potentials applied on each of the multiple electrodes by the multiple electric power sources on the basis of the electric potentials detected by the detection unit.
(FR) L'invention se rapporte à un appareil de traitement, caractérisé en ce qu'il comprend : une chambre à vide ; de multiples électrodes disposées à l'intérieur de la chambre à vide ; de multiples sources d'alimentation électrique pour l'application de potentiels électriques aux multiples électrodes respectives ; une unité de détection pour la détection des potentiels dans l'espace de traitement entre un substrat qui a été transporté dans la chambre à vide et chacune des multiples électrodes ; et une unité de commande pour la commande des phases des potentiels électriques appliqués sur chacune des multiples électrodes par les multiples sources d'alimentation électrique sur la base des potentiels électriques détectés par l'unité de détection.
(JA)  真空容器と、前記真空容器内に配置された複数の電極と、前記複数の電極のそれぞれに電位を与える複数の電源と、前記真空容器内に搬送される基板と前記複数の電極のそれぞれとの間のプロセス空間における電位を検出する検出部と、前記検出部によって検出された電位に基づいて、前記複数の電源によって前記複数の電極のそれぞれに与えられる電位の位相を制御する制御部と、を有することを特徴とする処理装置を提供する。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)