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1. (WO2015124589) DISPOSITIF POUR DÉPOSER UN MATÉRIAU PAR DÉPÔT PAR LASER PULSÉ ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT D'UN MATÉRIAU AU MOYEN DU DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/124589    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/053356
Date de publication : 27.08.2015 Date de dépôt international : 18.02.2015
CIB :
C23C 14/28 (2006.01), C23C 14/50 (2006.01)
Déposants : SOLMATES B.V. [NL/NL]; Drienerlolaan 5 NL-7522 NB Enschede (NL)
Inventeurs : DEKKERS, Jan Matthijn; (NL).
JANSSENS, Jan Arnaud; (NL)
Mandataire : 'T JONG, Bastiaan Jacob; (NL)
Données relatives à la priorité :
14156256.1 21.02.2014 EP
Titre (EN) DEVICE FOR DEPOSITING A MATERIAL BY PULSED LASER DEPOSITION AND A METHOD FOR DEPOSITING A MATERIAL WITH THE DEVICE
(FR) DISPOSITIF POUR DÉPOSER UN MATÉRIAU PAR DÉPÔT PAR LASER PULSÉ ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT D'UN MATÉRIAU AU MOYEN DU DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a device for depositing a material by pulsed laser deposition, the device comprising: - a vacuum chamber; - at least one substrate holder with a substrate, arranged inside the vacuum chamber, the substrate having a first, second and third direction, each of the three directions perpendicular to each other, wherein the substrate is movable by the substrate holder in the first direction; - a target holder with a target, arranged inside the vacuum chamber and wherein the target extends over substantially the full length in the second direction of the substrate and parallel to the substrate; - at least one laser for irradiating the target, thereby creating a plasma of material that deposits on the substrate, wherein the position of incidence of the laser on the target is moveable parallel to the second direction of the substrate; and - a controller for controlling the movement of the substrate holder and the movement of the position of incidence of the laser on the target.
(FR)L'invention concerne un dispositif permettant de déposer un matériau par dépôt par laser pulsé, le dispositif comprenant : - une chambre à vide ; - au moins un support de substrat comprenant un substrat, disposé à l'intérieur de la chambre à vide, le substrat ayant une première, une deuxième et une troisième direction, les trois directions étant chacune perpendiculaires entre elles, le substrat pouvant être déplacé par le support de substrat dans la première direction ; - un support de cible comprenant une cible, disposé à l'intérieur de la chambre à vide, la cible s'étendant sur sensiblement toute la longueur dans la deuxième direction du substrat et parallèlement au substrat ; - au moins un laser destiné à irradier la cible, ce qui permet de créer un plasma de matériau qui se dépose sur le substrat, la position d'incidence du laser sur la cible étant mobile parallèlement à la deuxième direction du substrat ; et - un dispositif de commande destiné à commander le déplacement du support de substrat et le déplacement de la position d'incidence du laser sur la cible.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)