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1. (WO2015124457) APPAREIL ET PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUES

Pub. No.:    WO/2015/124457    International Application No.:    PCT/EP2015/052673
Publication Date: Fri Aug 28 01:59:59 CEST 2015 International Filing Date: Wed Feb 11 00:59:59 CET 2015
IPC: G03F 7/20
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: VAN SCHOOT, Jan, Bernard, Plechelmus
MIGURA, Sascha
KNEER, Bernhard
Title: APPAREIL ET PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUES
Abstract:
La présente invention concerne un appareil lithographique qui comprend une structure de support conçue pour supporter un masque qui comprend une zone à motif qui est capable de transmettre un faisceau de rayonnement EUV conjointement avec un motif dans sa coupe transversale pour former un faisceau de rayonnement à motif, la structure de support étant mobile dans une direction de balayage, une table à substrat conçue pour supporter un substrat, la table à substrat étant mobile dans la direction de balayage, et un système de projection conçu pour projeter le faisceau de rayonnement à motif sur une région d'exposition du substrat, le système de projection présentant un amoindrissement dans la direction de balayage qui est supérieur à un amoindrissement dans une seconde direction qui est perpendiculaire à la direction de balayage et l'amoindrissement dans la seconde direction étant supérieur à 4x.