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1. (WO2015124457) APPAREIL ET PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/124457    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/052673
Date de publication : 27.08.2015 Date de dépôt international : 10.02.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL).
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventeurs : VAN SCHOOT, Jan, Bernard, Plechelmus; (NL).
MIGURA, Sascha; (DE).
KNEER, Bernhard; (DE)
Mandataire : VAN OS, Lodewijk; (NL)
Données relatives à la priorité :
14156365.0 24.02.2014 EP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A lithographic apparatus comprising a support structure constructed to support a mask comprising a patterned area which is capable of imparting an EUV radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, wherein the support structure is movable in a scanning direction, a substrate table constructed to hold a substrate, wherein the substrate table is movable in the scanning direction, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an exposure region of the substrate, wherein the projection system has a demagnification in the scanning direction which is greater than a demagnification in a second direction which is perpendicular to the scanning direction and wherein the demagnification in the second direction is greater than 4x.
(FR)La présente invention concerne un appareil lithographique qui comprend une structure de support conçue pour supporter un masque qui comprend une zone à motif qui est capable de transmettre un faisceau de rayonnement EUV conjointement avec un motif dans sa coupe transversale pour former un faisceau de rayonnement à motif, la structure de support étant mobile dans une direction de balayage, une table à substrat conçue pour supporter un substrat, la table à substrat étant mobile dans la direction de balayage, et un système de projection conçu pour projeter le faisceau de rayonnement à motif sur une région d'exposition du substrat, le système de projection présentant un amoindrissement dans la direction de balayage qui est supérieur à un amoindrissement dans une seconde direction qui est perpendiculaire à la direction de balayage et l'amoindrissement dans la seconde direction étant supérieur à 4x.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)