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1. (WO2015124372) SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE

Pub. No.:    WO/2015/124372    International Application No.:    PCT/EP2015/051352
Publication Date: Fri Aug 28 01:59:59 CEST 2015 International Filing Date: Sat Jan 24 00:59:59 CET 2015
IPC: G03F 7/20
H05G 2/00
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: VAN SCHOOT, Jan, Bernard, Plechelmus
CUPERUS, Minne
YAKUNIN, Andrei, Mikhailovich
Title: SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE
Abstract:
La présente invention a trait à un système lithographique qui comprend un appareil lithographique comportant un système de projection anamorphique, et une source de rayonnement conçue pour générer un plasma émetteur de rayonnement EUV à un emplacement de formation de plasma, le plasma émetteur de rayonnement EUV ayant une forme allongée dans un plan sensiblement perpendiculaire à l'axe optique de la source de rayonnement.