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1. (WO2015122721) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOULE MAÎTRE, MOULE MAÎTRE AINSI FABRIQUÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PHOTOMASQUE TRANSPARENT, PHOTOMASQUE TRANSPARENT AINSI FABRIQUÉ ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE MAILLE CONDUCTEUR À L'AIDE D'UN PHOTOMASQUE TRANSPARENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/122721    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/001489
Date de publication : 20.08.2015 Date de dépôt international : 13.02.2015
CIB :
G03F 7/26 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01J 1/30 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 150-721 (KR)
Inventeurs : PARK, Jeongho; (KR).
JUNG, Jinmi; (KR).
JEONG, Yujin; (KR).
SHIN, Bu Gon; (KR)
Mandataire : CHUNG, Soon-Sung; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0016625 13.02.2014 KR
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING MASTER MOLD, MASTER MOLD MANUFACTURED THEREBY, METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT PHOTOMASK, TRANSPARENT PHOTOMASK MANUFACTURED THEREBY, AND METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE MESH PATTERN USING TRANSPARENT PHOTOMASK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOULE MAÎTRE, MOULE MAÎTRE AINSI FABRIQUÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PHOTOMASQUE TRANSPARENT, PHOTOMASQUE TRANSPARENT AINSI FABRIQUÉ ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE MAILLE CONDUCTEUR À L'AIDE D'UN PHOTOMASQUE TRANSPARENT
(KO) 마스터 몰드의 제조방법, 이로 제조된 마스터 몰드, 투명포토마스크의 제조방법, 이로 제조된 투명포토마스크 및 상기 투명포토마스크를 이용한 전도성 메쉬패턴의 제조방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for manufacturing a master mold, the master mold manufactured thereby, a method for manufacturing a transparent photomask, the transparent photomask manufactured thereby, and a method for forming a conductive mesh pattern using the transparent photomask.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un moule maître, le moule maître ainsi fabriqué, un procédé de fabrication d'un photomasque transparent, le photomasque transparent ainsi fabriqué et un procédé de formation d'un motif de maille conducteur à l'aide du photomasque transparent.
(KO)본 발명은 마스터 몰드의 제조방법, 이로 제조된 마스터 몰드, 투명포토마스크의 제조방법, 이로 제조된 투명포토마스크 및 상기 투명포토마스크를 이용한 전도성 메쉬패턴의 제조방법에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)