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1. (WO2015122720) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE MAILLES CONDUCTEUR, ET GRILLE À MAILLES ET STRATIFIÉ FABRIQUÉS SELON CE PROCÉDÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/122720    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/001487
Date de publication : 20.08.2015 Date de dépôt international : 13.02.2015
CIB :
G03F 7/26 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01J 1/30 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 128, Yeoui-daero Yeongdeungpo-gu Seoul 150-721 (KR)
Inventeurs : PARK, Jeongho; (KR).
SHIN, Bu Gon; (KR).
KIM, Jae Jin; (KR).
LEE, Jongbyung; (KR).
JUNG, Jinmi; (KR).
JEONG, Yujin; (KR)
Mandataire : CHUNG, Soon-Sung; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0016625 13.02.2014 KR
Titre (EN) METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE MESH PATTERN, AND MESH ELECTRODE AND LAMINATE MANUFACTURED THEREBY
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE MAILLES CONDUCTEUR, ET GRILLE À MAILLES ET STRATIFIÉ FABRIQUÉS SELON CE PROCÉDÉ
(KO) 전도성 메쉬패턴의 제조방법, 이로 제조된 메쉬 전극 및 적층체
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for forming a conductive mesh pattern, and a mesh electrode and a laminate manufactured thereby.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation d'un motif de mailles conducteur, ainsi qu'une grille à mailles et un stratifié fabriqué selon ce procédé.
(KO)본 발명은 전도성 메쉬패턴의 제조방법, 이로 제조된 메쉬 전극 및 적층체에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)