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1. (WO2015122493) COMPOSITION DE RÉSINE DE POLYCARBONATE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/122493    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/053978
Date de publication : 20.08.2015 Date de dépôt international : 13.02.2015
CIB :
C08L 69/00 (2006.01), C08K 5/521 (2006.01), C08L 35/06 (2006.01), C08L 51/04 (2006.01), C08L 55/02 (2006.01)
Déposants : IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321 (JP)
Inventeurs : MURAKAMI, Tsuyoshi; (JP).
OKAMOTO, Yoshio; (JP)
Mandataire : OHTANI, Tamotsu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-025711 13.02.2014 JP
Titre (EN) POLYCARBONATE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE DE POLYCARBONATE
(JA) ポリカーボネート樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)A polycarbonate resin composition which comprises a polycarbonate resin (A) that contains a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (A-1) having a specific structure, a copolymer (B) that has constituent units respectively derived from acrylonitrile and styrene and does not have a constituent unit derived from methyl methacrylate, and a copolymer (C) that has constituent units respectively derived from butadiene and methyl methacrylate, wherein the content of the polyorganosiloxane block moiety is 0.50 to 10% by mass relative to the whole amount of the resin composition and the content of the constituent unit derived from butadiene is 3 to 10% by mass relative to the whole amount of the resin composition.
(FR)L'invention concerne une composition de résine de polycarbonate comprenant une résine de polycarbonate (A) qui contient un copolymère de polycarbonate-polyorganosiloxane (A-1) ayant une structure spécifique, un copolymère (B) qui comporte des motifs constitutifs dérivés respectivement de l'acrylonitrile et du styrène et ne comporte pas de motif constitutif dérivé du méthacrylate de méthyle, et un copolymère (C) qui comporte des motifs constitutifs dérivés respectivement du butadiène et du méthacrylate de méthyle. La teneur de la fraction séquence polyorganosiloxane est de 0,50 à 10 % en masse par rapport à la quantité totale de la composition de résine et la teneur du motif constitutif dérivé du butadiène est de 3 à 10 % en masse par rapport à la quantité totale de la composition de résine.
(JA) 特定構造のポリカーボネート-ポリオルガノシロキサン共重合体(A-1)を含有するポリカーボネート樹脂(A)と、アクリロニトリル及びスチレンに由来する構成単位を有しかつメチルメタクリレートに由来する構成単位を有さない共重合体(B)と、ブタジエン及びメチルメタクリレートに由来する構成単位を有する共重合体(C)とを含み、全樹脂組成物中の前記ポリオルガノシロキサンブロック部分の含有量が0.50~10質量%であり、全樹脂組成物中の前記ブタジエンに由来する構成単位の含有量が3~10質量%であるポリカーボネート樹脂組成物である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)