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1. (WO2015120996) PROCÉDÉ D'OPTIMISATION D'UNE FENÊTRE DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/120996    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/050168
Date de publication : 20.08.2015 Date de dépôt international : 07.01.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : HUNSCHE, Stefan; (US).
VELLANKI, Venugopal; (US)
Mandataire : PETERS, John; (NL)
Données relatives à la priorité :
61/939,071 12.02.2014 US
61/943,834 24.02.2014 US
Titre (EN) METHOD OF OPTIMIZING A PROCESS WINDOW
(FR) PROCÉDÉ D'OPTIMISATION D'UNE FENÊTRE DE TRAITEMENT
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein is a computer-implemented defect prediction method for a device manufacturing process involving processing a pattern onto a substrate, the method comprising: identifying a processing window limiting pattern (PWLP) from the pattern; determining a processing parameter under which the PWLP is processed; and determining or predicting, using the processing parameter, existence, probability of existence, a characteristic, or a combination thereof, of a defect produced from the PWLP with the device manufacturing process.
(FR)L'invention concerne un procédé de prédiction de défauts mis en œuvre par ordinateur pour un procédé de fabrication de dispositifs impliquant le traitement d'un motif sur un substrat, le procédé comprenant les étapes suivantes : identification d'un motif de limitation de la fenêtre de traitement (PWLP) à partir du motif; détermination d'un paramètre de traitement sous lequel le motif PWLP est traité; et détermination et prédiction, au moyen du paramètre de traitement, de l'existence, de la probabilité d'existence, d'une caractéristique ou d'une combinaison de ces dernières, d'un défaut produit à partir du motif PWLP avec le processus de fabrication de dispositifs.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)