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1. (WO2015119798) DISPOSITIFS, SYSTÈMES ET PROCÉDÉS POUR LIAISON DE SEMICONDUCTEURS AMÉLIORÉE PAR FORCE ÉLECTROSTATIQUE

Pub. No.:    WO/2015/119798    International Application No.:    PCT/US2015/012833
Publication Date: Fri Aug 14 01:59:59 CEST 2015 International Filing Date: Tue Jan 27 00:59:59 CET 2015
IPC: H01L 21/58
H01L 21/683
Applicants: MICRON TECHNOLOGY, INC.
Inventors: QIN, Shu
ZHANG, Ming
Title: DISPOSITIFS, SYSTÈMES ET PROCÉDÉS POUR LIAISON DE SEMICONDUCTEURS AMÉLIORÉE PAR FORCE ÉLECTROSTATIQUE
Abstract:
L'invention concerne divers modes de réalisation de dispositifs microélectroniques ainsi que des procédés de fabrication. Dans un mode de réalisation, un procédé destiné à améliorer la liaison de galette comprend le positionnement d'un ensemble substrat sur un mandrin électrostatique unipolaire en contact direct avec une électrode, la connexion électrique d'un conducteur à un deuxième substrat positionné sur le dessus du premier substrat, et l'application d'une tension à l'électrode, créant ainsi entre le premier substrat et le deuxième substrat une différence de potentiel qui génère une force électrostatique entre les premier et deuxième substrats.