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1. (WO2015119759) COMPOSITIONS PERMETTANT D'ÉLIMINER DES SUBSTANCES PRÉSENTES AU NIVEAU DE SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2015/119759 N° de la demande internationale : PCT/US2015/011692
Date de publication : 13.08.2015 Date de dépôt international : 16.01.2015
CIB :
G03F 7/42 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26
Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
42
Elimination des réserves ou agents à cet effet
Déposants :
DYNALOY, LLC [US/US]; 200 South Wilcox Drive Kingsport, TN 37660, US
Inventeurs :
PETERS, Richard, Dalton; US
ACRA, Travis; US
CAO, Yuanmei; US
GILBERT, Nichelle, Maria; US
PHENIS, Michael, Tod; US
POLLARD, Kimberly, Dona; US
CUMMINS, Joshua; US
GUO, Meng; US
PFETTSCHER, Donald, James; US
Mandataire :
CARMEN, Dennis, V.; US
Données relatives à la priorité :
14/174,24606.02.2014US
Titre (EN) COMPOSITION FOR REMOVING SUBSTANCES FROM SUBSTRATES
(FR) COMPOSITIONS PERMETTANT D'ÉLIMINER DES SUBSTANCES PRÉSENTES AU NIVEAU DE SUBSTRATS
Abrégé :
(EN) Stripping compositions are described that are useful for removing organic substances from substrates, for example, electronic device substrates such as microelectronic wafers or flat panel displays. The stripping compositions may be suitable for removing photoresists, including acrylic-based negative dry film photoresist, from electronic devices. In one embodiment, the stripping compositions can include a polar protic solvent, an amine or alkanoamine, and a quaternary ammonium hydroxide. In one embodiment the stripping compositions can include a polar protic solvent and at least two alkanoamines. The stripping compositions may be free of polar aprotic solvents.
(FR) L'invention concerne des compositions de décapage qui sont utiles pour éliminer des substances organiques présentes au niveau de substrats, par exemple de substrats de dispositifs électroniques tels que des plaquettes pour dispositifs microélectroniques ou des dispositifs d'affichage à écran plat. Ces compositions de décapage peuvent être appropriées à l'élimination des résines photosensibles, dont, notamment, les résines photosensibles négatives à film sec à base d'acrylique, présentes au niveau de dispositifs électroniques. Dans un mode de réalisation, ces compositions de décapage peuvent comprendre un solvant protique polaire, une amine ou une alcanoamine et un hydroxyde d'ammonium quaternaire. Dans un mode de réalisation, les compositions de décapage peuvent comprendre un solvant protique polaire et au moins deux alcanoamines. Ces compositions de décapage peuvent être exemptes de solvants aprotiques polaires.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)