WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015119636) PROCÉDÉ D'ALIGNEMENT DE SUBSTRATS TRANSPARENTS À L'AIDE D'INTERFÉRENCE DE MOIRÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/119636    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/015635
Date de publication : 13.08.2015 Date de dépôt international : 10.02.2014
CIB :
G06F 3/041 (2006.01)
Déposants : UNI-PIXEL DISPLAYS, INC. [US/US]; 8708 Technology Forest Place, Suite 100 The Woodlands, TX 77381 (US)
Inventeurs : DERICHS, Kevin; (US)
Mandataire : KREBS, Robert, E.; Nixon Peabody, LLP 2 Palo Alto Square 3000 El Camino Real, Suite 500 Palo Alto, CA 94306-2106 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD OF ALIGNING TRANSPARENT SUBSTRATES USING MOIRÉ INTERFERENCE
(FR) PROCÉDÉ D'ALIGNEMENT DE SUBSTRATS TRANSPARENTS À L'AIDE D'INTERFÉRENCE DE MOIRÉ
Abrégé : front page image
(EN)A method of aligning transparent substrates includes disposing one or more Moiré interference patterns on a side of a first transparent substrate, disposing one or more inverted Moiré interference patterns on a side of a second transparent substrate, and aligning the first transparent substrate to the second transparent substrate using Moiré interference. Each Moiré interference pattern is center-aligned to a corresponding inverted Moiré interference pattern.
(FR)L'invention concerne un procédé d'alignement de substrats transparents, ledit procédé consistant à disposer un ou plusieurs motifs d'interférence de Moiré sur un côté d'un premier substrat transparent, à disposer un ou plusieurs motifs d'interférence de Moiré inversés sur un côté d'un second substrat transparent, et à aligner le premier substrat transparent avec le second substrat transparent à l'aide d'une interférence de Moiré. Chaque motif d'interférence de Moiré est aligné avec le centre d'un motif d'interférence de Moiré inversé correspondant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)