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1. (WO2015119459) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF EMPÊCHANT LA CONTREFAÇON ET DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE MOTIF EMPÊCHANT LA CONTREFAÇON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2015/119459 N° de la demande internationale : PCT/KR2015/001251
Date de publication : 13.08.2015 Date de dépôt international : 06.02.2015
CIB :
B23K 26/36 (2014.01) ,B42D 25/328 (2014.01) ,G07D 7/06 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23
MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
K
BRASAGE OU DÉBRASAGE; SOUDAGE; REVÊTEMENT OU PLACAGE PAR BRASAGE OU SOUDAGE; DÉCOUPAGE PAR CHAUFFAGE LOCALISÉ, p.ex. DÉCOUPAGE AU CHALUMEAU; TRAVAIL PAR RAYON LASER
26
Travail par rayon laser, p.ex. soudage, découpage, perçage
36
Enlèvement de matière
[IPC code unknown for B42D 25/328]
G PHYSIQUE
07
DISPOSITIFS DE CONTRÔLE
D
MANIPULATION DE PIÈCES DE MONNAIE, DE PAPIER-MONNAIE OU DE PAPIERS DE VALEUR ANALOGUES, p.ex. VÉRIFICATION, TRI PAR VALEURS, COMPTAGE, DISTRIBUTION, CHANGE OU DÉPÔT
7
Vérification spécialement adaptée à la détermination de l'identité ou de l'authenticité de papier-monnaie ou de papiers de valeur analogues, p.ex. pour séparer ceux qui ne peuvent pas être acceptés ou qui sont en monnaie étrangère
06
à l'aide d'un rayonnement ondulatoire ou corpusculaire
Déposants : KOREA INSTITUTE OF MACHINERY & MATERIALS[KR/KR]; 156, Gajeongbuk-Ro, Yuseong-Gu, Daejeon 305-343, KR
Inventeurs : NOH, Ji-Whan; KR
KANG, Hee-Shin; KR
SOHN, Hyon Kee; KR
KIM, Jeng-O; KR
Mandataire : PANKOREA PATENT AND LAW FIRM; 13F, 70 Nonhyeon-ro 85-gil, Gangnam-gu, Seoul 135-080, KR
Données relatives à la priorité :
10-2014-001424807.02.2014KR
10-2014-001425007.02.2014KR
10-2014-016913228.11.2014KR
10-2015-001814705.02.2015KR
10-2015-001814805.02.2015KR
Titre (EN) DEVICE AND METHOD FOR FORMING COUNTERFEITING PREVENTING PATTERN, AND DEVICE AND METHOD FOR DETECTING COUNTERFEITING PREVENTING PATTERN
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF EMPÊCHANT LA CONTREFAÇON ET DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE MOTIF EMPÊCHANT LA CONTREFAÇON
(KO) 위조방지 패턴 생성 장치 및 그 방법, 위조방지 패턴 감지 장치 및 그 방법
Abrégé :
(EN) The present invention provides: a device and method for forming a counterfeiting preventing pattern, which can produce a counterfeiting preventing pattern at a lower cost and more quickly by forming a nanometer or micrometer-scale fine pattern by using a laser processing system; and a device and method for detecting a micrometer or nanometer-scale counterfeiting preventing pattern by using a laser measuring system.
(FR) La présente invention concerne: un dispositif et un procédé de formation d'un motif empêchant la contrefaçon permettant de produire un motif empêchant la contrefaçon à moindres coûts et plus rapidement en formant un motif fin à l'échelle nanométrique ou micrométrique au moyen d'un système de traitement au laser; et un dispositif et un procédé de détection d'un motif empêchant la contrefaçon à l'échelle micrométrique ou nanométrique au moyen d'un système de mesure à l'aide d'un laser.
(KO) 본 발명은 레이저 가공시스템을 이용하여 나노미터 또는 마이크로미터 스케일의 미세 패턴을 형성함으로써 보다 적은 비용으로 보다 신속하게 위조방지 패턴을 가공할 수 있는 위조방지 패턴 생성 장치 및 그 방법과, 레이저 측정시스템을 이용하여 마이크로미터 또는 나노미터 스케일의 위조방지 패턴을 감지하는 장치 및 그 방법을 제공한다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)