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1. (WO2015119210) STRATIFIÉ DE VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/119210    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/053286
Date de publication : 13.08.2015 Date de dépôt international : 05.02.2015
CIB :
B32B 17/10 (2006.01), C03C 27/10 (2006.01), C09J 183/04 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : YAMAMOTO, Kyoko; (JP).
SASAKI, Takashi; (JP).
SHIMOSAKA, Takamichi; (JP).
MIN, Kyon Hun; (JP).
UCHIDA, Daisuke; (JP).
MIYAJIMA, Tatsuya; (JP).
ISHIKAWA, Yuki; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-022697 07.02.2014 JP
Titre (EN) GLASS LAMINATE
(FR) STRATIFIÉ DE VERRE
(JA) ガラス積層体
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a glass laminate wherein a glass substrate is able to be easily separated even after a high-temperature heat treatment, and wherein decomposition of a silicone resin layer is suppressed. A glass laminate which is provided with a supporting base layer, a silicone resin layer and a glass substrate layer in this order, and wherein: a silicone resin in the silicone resin layer has an organosiloxy unit represented by formula (T3); the ratio of the total organosiloxy units represented by formula (T3) to the total organosiloxy units is 80-100% by mole; the molar ratio of organosiloxy units (A-1) represented by formula (T3) wherein R is a phenyl group to organosiloxy units (B-1) represented by formula (T3) wherein R is a methyl group, namely (A-1):(B-1) is 80-20:20-80; and a specific peel strength relation is satisfied. T3: R-SiO3/2 (In the formula, R represents a phenyl group or a methyl group.)
(FR)La présente invention concerne un stratifié de verre, dans lequel un substrat en verre peut être facilement séparé même après un traitement thermique à haute température, et dans lequel la décomposition d'une couche de résine silicone est supprimée. La présente invention concerne un stratifié de verre pourvu d'une couche de base de support, d'une couche de résine silicone et d'une couche de substrat en verre dans cet ordre, et dans lequel : une résine silicone dans la couche de résine silicone présente une unité organosiloxy représentée par la formule (T3); le rapport des unités organosiloxy totales représentées par la formule (T3) sur les unités organosiloxy totales est de 80 à 100 % par mole; le rapport molaire des unités organosiloxy (A-1) représentées par la formule (T3) dans laquelle R est un groupe phényle sur les unités organosiloxy (B-1) représentées par la formule (T3) dans laquelle R est un groupe méthyle, à savoir (A-1):(B-1) est de 80-20:20-80; et une résistance au pelage spécifique est satisfaite. T3 : R-SiO3/2 (Dans la formule, R représente un groupe phényle ou un groupe méthyle.)
(JA) 高温加熱処理後でもガラス基板を容易に剥離することができ、シリコーン樹脂層の分解も抑制されたガラス積層体を提供する。 支持基材の層とシリコーン樹脂層とガラス基板の層とをこの順で備え、シリコーン樹脂層中のシリコーン樹脂が、T3で表されるオルガノシロキシ単位を有し、全オルガノシロキシ単位に対するT3で表されるオルガノシロキシ単位の合計割合が80~100モル%であり、T3中のRがフェニル基であるオルガノシロキシ単位(A-1)と、T3中のRがメチル基であるオルガノシロキシ単位(B-1)とのモル比((A-1):(B-1))が80~20:20~80であり、所定の剥離強度関係を満たす、ガラス積層体。 T3:R-SiO3/2 (式中、Rは、フェニル基またはメチル基を表す。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)