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1. (WO2015119163) MATÉRIAU POUR BASE DE PROTHÈSE DENTAIRE, BASE DE PROTHÈSE DENTAIRE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, PROTHÈSE DENTAIRE À PLAQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/119163    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/053129
Date de publication : 13.08.2015 Date de dépôt international : 04.02.2015
CIB :
A61C 13/01 (2006.01), A61K 6/00 (2006.01)
Déposants : MITSUI CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057117 (JP).
NITTO JUSHI KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 2-9-29, Hiratsuka, Shinagawa-ku, Tokyo 1420051 (JP)
Inventeurs : KOHGO, Osamu; (JP).
KATO, Naoyuki; (JP).
OKUMURA, Maho; (JP).
JALALUDIN, Ahmad; (JP).
KOJIMA, Kouya; (JP).
HIGUCHI, Eizaburo; (JP).
TAKAHASHI, Yuji; (JP)
Mandataire : NAKAJIMA, Jun; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-020634 05.02.2014 JP
2014-265370 26.12.2014 JP
Titre (EN) MATERIAL FOR DENTURE BASE; DENTURE BASE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF; PLATE DENTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) MATÉRIAU POUR BASE DE PROTHÈSE DENTAIRE, BASE DE PROTHÈSE DENTAIRE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, PROTHÈSE DENTAIRE À PLAQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 義歯床用材料、義歯床及びその製造方法、並びに、有床義歯及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This material for a denture base contains a polymer component which includes an acrylic resin and which has a weight-average molecular weight of 1.20 million or higher.
(FR)L'invention concerne un matériau pour une base de prothèse dentaire qui contient un constituant polymère qui comprend une résine acrylique et a un poids moléculaire moyen de 1,20 million ou plus.
(JA) アクリル系樹脂を含む重量平均分子量120万以上の高分子成分を含有する義歯床用材料。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)