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1. (WO2015119034) SOL DE MICROPARTICULES À BASE DE SILICE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/119034    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/052497
Date de publication : 13.08.2015 Date de dépôt international : 29.01.2015
CIB :
C01B 33/141 (2006.01), C01B 33/145 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : KASHIMA, Yoshiyuki; (JP).
TAKAKUMA, Noriyuki; (JP).
KOIDE, Takuhiro; (JP)
Mandataire : KURIHARA, Hiroyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-021556 06.02.2014 JP
Titre (EN) SOL OF SILICA FINE PARTICLES AND PRODUCTION METHOD FOR SOL OF SILICA FINE PARTICLES
(FR) SOL DE MICROPARTICULES À BASE DE SILICE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) シリカ系微粒子ゾル及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An aqueous sol of silica fine particles that have a primary particle size of 3-50 nm and that contain, per 100 parts by mass of SiO2, 0.3-6 parts by mass of Li2O, 1-15 parts by mass of R2O (where R represents a sodium atom or a potassium atom), and 1-15 parts by mass of Al2O3.
(FR)L'invention concerne un hydrosol de microparticules à base de silice qui présente un diamètre particulaire primaire de 3 à 50nm, et qui comprend pour 100 parties en masse de SiO2, 0,3 à 6 parties en masse de Li2O, 1 à 15 parties en masse de R2O (R représente un atome de sodium ou un atome de potassium) et 1 à 15 parties en masse de Al2O3.
(JA) 3~50nmの一次粒子径を有し、SiO100質量部に対してLiO0.3~6質量部、RO1~15質量部(但し、Rはナトリウム原子又はカリウム原子を表す。)、Al1~15質量部を含有するシリカ系微粒子の水性ゾルによる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)