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1. (WO2015115653) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT À UTILISER POUR UN DISQUE MAGNÉTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISQUE MAGNÉTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/115653    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/052892
Date de publication : 06.08.2015 Date de dépôt international : 02.02.2015
CIB :
G11B 5/84 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), C09K 3/14 (2006.01)
Déposants : HOYA CORPORATION [JP/JP]; 6-10-1 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1608347 (JP)
Inventeurs : TOKUMITSU Shuzo; (JP).
HARA Kouta; (JP)
Mandataire : OTSUKA Takefumi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-017134 31.01.2014 JP
Titre (EN) MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC DISK-USE SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC DISK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT À UTILISER POUR UN DISQUE MAGNÉTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a manufacturing method for a magnetic disk-use glass substrate which can sufficiently reduce substrate surface defects by suppressing the remains of washing off abrasive grains. In the present invention, a circular plate-shaped substrate is sandwiched using a pair of platens for which polishing pads have been deployed on the surface thereof, a polishing fluid which includes colloidal silica as abrasive grains is supplied to the polishing surfaces, and the main surfaces of the circular plate-shaped substrate are polished. The polishing fluid includes, as an additive, the following substance which comprises a specified amide group or urea group. R1-NH-CO-R2 In the formula, R1 represents an alkyl group or a hydrogen atom, R2 represents an alkyl group or -NH-R3, and R3 represents an alkyl group.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat de verre à utiliser pour un disque magnétique qui peut suffisamment réduire les défauts de surface du substrat en supprimant les restes de grains abrasifs utilisés pour le lavage. Dans la présente invention, un substrat en forme de plateau circulaire est intercalé à l'aide d'une paire de plaques sur la surface desquelles ont été déployés des tampons à polir, les surfaces de polissage sont alimentées en fluide de polissage comprenant de la silice colloïdale utilisée comme grains abrasifs, et les surfaces principales du substrat en forme de plateau circulaire sont polies. Le fluide de polissage comprend, comme additif, la substance suivante comprenant un groupe amide ou un groupe urée défini. R1-NH-CO-R2 Dans la formule, R1 représente un groupe alkyle ou un atome d'hydrogène, R2 représente un groupe alkyle ou -NH-R3 et R3 représente un groupe alkyle.
(JA) 本発明は、研磨砥粒の洗浄残りを抑制して、基板表面欠陥を十分に低減させることが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。 本発明では、円板状の基板を、表面に研磨パッドが配備された一対の定盤で挟み、研磨面にコロイダルシリカを研磨砥粒として含む研磨液を供給して円板状の基板の主表面を研磨する。上記研磨液は、特定のアミド基あるいはウレア基を有する下記物質を添加剤として含有する。 R-NH-CO-R 式中、Rはアルキル基又は水素原子を表し、Rはアルキル基又は-NH-Rを表し、Rはアルキル基を表す。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)